二氯甲烷废气处理装置

时间:2024年07月17日 来源:

催化燃烧热氧化法,热氧化法是在高温和氧气存在的情况下,高于挥发性有机物自燃温度处理挥发性有 机物。通常情况下,温度范围在700〜900C之间,若保持足够长的时间,几乎可以完 全氧化挥发性有机物为二氧化碳、水。高温需要大量能量,导致运行成本高。因此, 热氧化法常用于去除高浓度挥发性有机物,用于去除低浓度挥发性有机物不切实际。 可通过使用回热式热交换器或陶瓷床热回用来降低热氧化法的燃料燃烧(运行成本)。 热氧化法中运行温度的控制至关重要,这是因为氮氧化物、二嘿英的生成取决于气体温度。废气处理的过程需要监测控制废气排放的关键参数。二氯甲烷废气处理装置

二氯甲烷废气处理装置,废气处理

浓缩转轮/焚烧炉RotorConcentrator/Oxidizer,浓缩转轮/焚烧炉系统吸附大风量低浓度挥发性有机化合物(VOCs)。再把脱附后小风量高浓度废气导入焚烧炉予以分解净化。大风量低浓度的VOCs废气,通过一个由沸石为吸附材料的转轮,VOCs经被转轮吸附区的沸石所吸附后净化的气体经烟囱排到大气,再于脱附区中用180℃~200℃的小量热空气,将VOCs予以脱附。如此一高浓度小风量的脱附废气在导入焚烧炉中予以分解为二氧化碳及水气,净化的气体经烟囱排到大气。这一浓缩的工艺较大程度上地降低燃料费用。广东合成药废气处理废气处理过程中应注重预防和控制相结合的原则,减少污染物的产生和排放。

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冷凝工艺的影响因素,冷凝分离法回收轻烃要对原料气体冷却降温。根据原理可分为节流膨胀制冷,膨胀机膨胀制冷。根据工艺可分为制冷剂制冷(如丙烷制冷),节流膨胀制冷,膨胀机膨胀制冷,混合制冷(在膨胀机膨胀制冷或工艺流体自身节流膨胀制冷的基础上外加冷剂制冷)。分离方法包括精馏系统精馏分离,分离器相平衡分离。这个过程一般包括脱水、增压(低压力气体)、精馏和制冷。以上冷凝工艺的各个部分的选择都会影响较终的冷凝效果。

氯化有机物催化剂焚烧炉,氯化有机物催化剂焚烧炉(ChlorinatedCatalyticOxidizer)系统依风量,污染物种类及所需去除效率而设计。在运行操作时,含VOCs的废气经氯化有机物催化剂焚烧炉风机抽到系统换热器中。废气通过换热器的管侧,再到燃烧机,此处将废气加热到催化剂反应温度。含VOCs废气通过特制的抗卤化物毒化的催化剂,转化成二氧化碳,水气并放出热。这热净化的气体通过换热器的壳侧,将热能加热浸入系统的废气,如此可以将燃料费用降到较小,在许多时候,如VOCs浓度够高,可以不需额外燃料系统即可自行运转。然后如有需要,可装设恩国洗涤塔以去除无机酸(如HCL,CL2,HBr,Br2等)。 氯化氢套装洗涤塔(HCLScrubberModule),氯化氢套装洗涤塔出口含HCL或CL2的气体导入氯化氢套装洗涤塔中的骤冷塔,循环汞喷注大量的水进入用超合金(Hastelloy)材质的骤冷塔(quenches)。这时水会把热废气降温并将部分的氯化氢予以吸收,之后经一气道进入逆流式的吸收塔。循环吸收溶液从吸收塔顶部的喷嘴喷洒而下,将剩余的氯化氢充份吸收,然后通过一除水层把水滴去除,再排到大气。废气处理是工业文明进步的体现,有助于实现人与自然的和谐共生。

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等离子体工艺:(1)等离子体工艺简介,等离子体污染物控制技术利用气体放电产生具有高度反应活性的粒子与各种有机、无机污染物发生反应,从而使污染物分子分解成为小分子化合物或氧化成容易处理的化合物而被去除。这一技术的较大特点是可以高效、便捷地对多种污染物进行破坏分解,使用的设备简单,占用的空间较小,并适合于多种工作环境。(2)等离子体工艺原理及流程,用于处理挥发性有机物的主要是电晕放电,主要的降解机制如下:在施加的电场下,在电极空间中的电子获得了能量并开始加速。运动的过程中的电子与气体分子相互碰撞,使气体分子被激发、电离或吸附电子成为负离子。废气处理设备的智能化和自动化是未来发展的趋势,能够提高处理效率和精度。广东合成药废气处理

废气处理技术包括物理、化学、生物等多种方法。二氯甲烷废气处理装置

介绍焚烧工艺工业废气治理汇总,涵盖VOCs处理内容如下:RTO蓄热式焚烧炉,排放自工艺含VOCs的废气进入双槽RTO,三向切换风阀(POPPETVALVE)将此废气导入RTO的蓄热槽(EnergyRecoveryChamber)而预热此废气,含污染的废气被蓄热陶块渐渐地加热后进入燃烧室(CombustionChamber),VOCs在燃烧室被氧化而放出热能于第二蓄热槽中之陶块,用以减少辅助燃料的消耗。陶块被加热,燃烧氧化后的干净气体逐渐降低温度,因此出口温度略高于RTO入口温度。三向切换风阀切换改变RTO出口/入口温度。如果VOCs浓度够高,所放出的热能足够时,RTO即不需燃料。例如RTO热回收效率为95%时,RTO出口只较入口温度高25℃而已。二氯甲烷废气处理装置

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