金华加热功率比例可调真空烘箱

    本实用新型的目的是，提供一种保温效果好的真空烘箱，降低设备使用成本，并能高效排出水蒸汽。本实用新型采用的技术方案如下：热对流真空烘箱，包括真空箱体和密封门，真空箱体内壁设置无孔镜面不锈钢板、有孔镜面不锈钢板，这两种不锈钢板组合配对装配，无孔的靠箱体内壁，有孔的在箱体内表面，真空箱体上部和下部都设有氮气进气口。真空箱体顶部设置有孔镜面不锈钢板；无孔镜面不锈钢板与有孔镜面不锈钢板之间距为5—15mm，当部分热量辐射传到无孔不锈钢板后，热量通过有孔不锈钢板上的小孔传到箱体中，持续保持中心温度，达到降低设备功耗的目的。该实用新型与现有技术比具有以下效果：有孔镜面不锈钢板能有效地将板与板夹层中的温度通过小孔辐射到真空箱体中，并形成温度对流，减少热量损失。真空箱体顶部和下部两侧的氮气进气口，能快速将水蒸汽排挤到箱体上部，减少静置的时间，提高生产效率。使用时预先对氮气加热，可减少水珠的形成，尽量多地排出水蒸汽，提高烘干效率。广泛应用于医药,冶金,电子五金,食品,化工,PCB烘烤等等行业。金华加热功率比例可调真空烘箱

    充氮真空烘箱(N2VacuumOvens)适用范围:适用于半导体、电子产品、五金制品、医疗卫生、仪器仪表、工厂、高等院校、科研等部门作无氧化干燥、固化、焊接、退火等高温处理。产品特点:1、迅速脱氧：该箱内胆采用不锈钢制造，箱壁接缝全部采用氩弧焊焊接，密封性能较好，能快速脱氧；2、氮气功能：可充入氮气、氩气等惰性气体，实现气氛、无氧、降温之功能；3、高效率：稳定和快速的升温性能，有助于提高产品质量和效率；4、保温节能：箱体与工作室之间填充高密度纤维棉作保温材料，有效保温节能；5、密封性好：箱门与工作室外框设有耐高温无尘密封条和压紧装置,有效地保证了箱体的密封性能；6、置物架：工作室内设计可抽取的载物网板；7、美观简洁：设备外形美观，操作简便，控温灵敏准确；8、宽泛的温度范围选择。杭州快速干燥真空烘箱定制箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

    为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性，通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤，在真空或干燥氮气的机台中，以150～200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分，在此温度下，晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后，晶片须经过一次烘烤，称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常，软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高，但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定，典型的软烘温度是90～100℃，时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后，为了后面的高能工艺，如离子注入和等离子体刻蚀，也须对晶片进行高温烘烤，称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于：减少驻波效应；激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。

由外及里，干燥箱的内胆有两种选择，一是镀锌板，二是镜面不锈钢。镀锌板在长期使用过程中容易生锈，不利于保养；镜面不锈钢外观整洁，易于保养，使用寿命长，属市场上较好的内胆材质，但是价格要稍高于镀锌板。 内胆的样品架子一般有两层，可根据客户的要求增添。由于样品架的质量是由不锈钢压制而成，且多增加的架子不利于内部热风的循环，加大风机的质量要求，所以每加一个架子的成本在三百元之间。国内干燥箱的保温材质主要是以纤维棉为主，少数采用聚氨酯。双层钢化玻璃观察窗，工作状态一目了然。

使用注意事项：7.真空箱经多次使用后，会产生不能抽真空的现象，此时应更换门封条或调整箱体上的门扣伸出距离来解决。当真空箱干燥温度高于200℃时，会产生慢漏气现象（除6050、6050B、6051、6053外），此时拆开箱体背后盖板用内六角扳手拧松加热器底座，调换密封圈或拧紧加热器底座来解决。8.放气阀橡皮塞若旋转困难，可在内涂上适量油脂润滑。（如凡士林）9.除维修外，不能拆开左侧箱体盖（6090及6210型除外）以免损坏电器控制系统。10.真空箱应经常保持清洁。箱门玻璃切忌用有反应的化学溶液擦拭，应用松软棉布擦拭。11.若真空箱长期不用，将露在外面的电镀件擦净后涂上中性油脂，以防腐蚀，并套上塑料薄膜防尘罩，放置于干燥的室内，以免电器元件受潮损坏，影响使用。12.真空箱不需连续抽气使用时，应先关闭真空阀，再关闭真空泵电源，否则真空泵油要倒灌至箱内。放气阀橡皮塞若旋转困难，可在内涂上适量油脂润滑。嘉兴噪音小真空烘箱定制

经常检查油位位置，不符合规定时须调整使之符合要求。金华加热功率比例可调真空烘箱

在CCD（电荷耦合器件）制造过程中，颗粒沾污对CCD的薄膜质量、光刻图形完整性等有很大的影响，降低CCD的成品率。CCD制造过程中的颗粒来源主要有两个方面：一个制造过程中工艺环境产生的颗粒；另一个是薄膜的淀积、光刻和离子注入等CCD工艺过程中产生的颗粒。工艺环境的颗粒可来源于墙体、设施、设备、材料和人员，工艺过程的颗粒来源于易产生粉尘的工艺，比如说LPCVD淀积多晶硅和氮化硅及刻蚀工艺等。无尘烘箱，即使在普通环境下使用，能够确保烘箱内部等级达到Class 100，为CCD（电荷耦合器件）制造过程中烘烤提供洁净环境，预防颗粒沾污金华加热功率比例可调真空烘箱

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