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体外诊断试剂设计

时间:2025年01月15日 来源:成都博一医药设计有限公司

危险的厂房和周围的建筑物、构筑物应该保持一定的防火间距。例如,与民用建筑的防火间距不应小于25米,与重要公共建筑的防火间距不应小于50米,与明火或散发火花的地点的防火间距不应小于30米。危险的厂房比较好采用矩形的平面布置,与主导风向垂直或夹角不小于45度,以便有效利用穿堂风,将有害气体吹散。在山区,宜将其布置在迎风山坡一面且通风良好的地方。防爆厂房应该单独设置。如果必须与非防爆厂房相邻,只能在一面相邻,并且在两者之间用防火墙或防爆墙隔开。相邻的两个厂房之间不应该直接相通,以避免冲击波的影响。危险设备应尽量避开厂房的梁、柱等承重结构。防爆厂房内的高大设备应该布置在厂房的中间,矮小设备应该靠近外墙门窗布置,以免挡风。危险的厂房和库房比较好采用单层建筑。实验室设计推荐成都博一医药设计有限公司。体外诊断试剂设计

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洁净室控制:对气压规定对于大部分洁净空间,是为了防止外界污染侵入,需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则:①洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。②洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。压力差的维持依靠新风量,这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄(或渗透)风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。成都疫苗洁净厂房设计基因净化工程欢迎咨询成都博一医药设计有限公司。

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洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好湿度范围为35—45%。

安全防火是制药工业厂房中非常重要的一项措施。为了确定适当的安全防火措施,需要考虑生产过程中使用、产生和存储的原料、中间产品和成品的物理化学性质、数量以及火灾危险程度,以及生产过程的性质等因素。对于化学合成原料药的生产厂房,建筑物应具备一级或二级耐火等级。对于原料药的结晶精制、干燥等工序以及制剂生产用的洁净厂房,耐火等级要求不低于二级,并且建筑构配件的耐火性能应与甲、乙类火灾危险等级相匹配。一般厂房应设有至少两个安全出口,而洁净厂房每个生产层或每个洁净区的安全出口数量不应少于两个,并且应该均匀地分散布置。洁净实验室设计选择成都博一医药设计有限公司。

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洁净室中的气流速度规定这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度,在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。对于乱流洁净室由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度,所以主要用换气次数这一概念,而不直接用速度的概念,不过对室内气流速度也有如下要求;①送风口出口气流速度不宜太大,和单纯空调房间相比,要求速度衰减更快,扩散角度更大。②吹过水平面的气流速度(例如侧送时回流速度)不宜太大,以免吹起表面微粒重返气流,而造成再污染,这一速度一般不宜大干0.2m/s。对于平行流洁净室习惯上称层流洁净室,由于主要靠气流的“活塞打挤压作用排除行染,所以截面上的速度就是非常重要的指标。过去都参考美国20gB标准,采用0.45m/s.但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的,为了节能,也都在探求降低风速的可行性。厂房设计厂家欢迎联系成都博一医药设计有限公司。血液制品净化工程设计

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洁净厂房的消防控制设备和线路连接必须可靠。控制设备的功能和显示必须符合现行国家标准《建筑设计防火规范》(GBJ16)和《火灾自动报警系统设计规范》(GB50116)的规定。在洁净区内,必须核实火灾报警,并进行以下消防联动控制:1.启动室内消防水泵,并接收其反馈信号。除了自动控制外,还必须在消防控制室设置手动直接控制装置。2.关闭相关区域的电动防火阀,停止相应的空调循环风机、排风机和新风机,并接收其反馈信号。3.关闭相关区域的电动防火门和防火卷帘门。4.控制备用应急照明灯和疏散标志灯点亮。体外诊断试剂设计

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