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扫描电镜在化学中的应用 扫描电镜技术在材料学的应用十分普遍，比如，可用扫描电镜观察研究薄膜传感器压阻的灵敏度，用于观测碳化硅颗粒增强的铝基复合材料的界面反应产物的形貌。 五、在工业中的应用 1)在半导体工业中的应用 由于半导体器件体积小、重量轻、寿命长、功率损耗小、机械性能钞好，因而适用的范围广。然而半导体器件的性能和稳定性在很大程度上受它表面的微观状态的影响。 一般半导体器件试制和生产过程中包括了切割、研磨，抛光以及各种化学试剂处理等一系列序，正是在这些过程中，会造成表而的结构发生惊人的变化，所以几乎每一 个步骤都需对扩散区的深度进行测量或者直接看到扩散区的实际分布情况，而生产大型集成电路更是如此。因此，扫描电镜被普遍应用于半导体工业中，比如，用于质 量监控与公益诊断、器件分析、失效分析和可靠性研究、电子材料研制分析等。扫描电镜(SEM)是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段。江苏细胞扫描电镜拍照

扫描电镜可用于观察厚试样。其在观察厚试样时，能得到高的分辨率和较为真实的形貌。扫描电子显微的分辨率介于光学显微镜和透射电子显微镜之间。但在对厚块试样的观察进行比较时，因为在透射电子显微镜中还要采用复膜方法，而复膜的分辨率通常只能达到10 nm，且观察的不是试样本身，因此，用扫描电子显微镜观察厚块试样更有利，更能得到真实的试样表面资料。在观察形貌的同时，进行微区的成分分析。以及三维形貌的观察和分析在大视场、低放大倍数下观察样品。用扫描电子显微镜观察试样的视场大。在扫描电子显微镜中，能同时观察试样的视场范围F由下式来确定浙江哪家做扫描电镜扫描电镜能同时分析形貌和成分，可用于形貌观察、显微结构分析、微区成分分析、断口形貌和成分分布分析等。

由于扫描电子显微镜具有上述特点和功能，所以越来越受到科研人员的重视，用途日益普遍。扫描电子显微镜已普遍用于材料科学（金属材料、非金属材料、纳米材料）、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害（火灾、失效分析）鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。在电子扫描中，把电子束从左到右方向的扫描运动叫做行扫描或称作水平扫描，把电子束从上到下方向的扫描运动叫做帧扫描或称作垂直扫描。两者的扫描速度完全不同，行扫描的速度比帧扫描的速度快，对于1000条线的扫描图象来说，速度比为1000。

扫描电镜进行动态观察。在扫描电子显微镜中，成象的信息主要是电子信息。根据近代的电子工业技术水平，即使高速变化的电子信息，也能毫不困难的及时接收、处理和储存，故可进行一些动态过程的观察。如果在样品室内装有加热、冷却、弯曲、拉伸和离子刻蚀等附件，则可以通过电视装置，观察相变、断裂等动态的变化过程。从试样表面形貌获得多方面资料。在扫描电子显微镜中，不*可以利用入射电子和试样相互作用产生各种信息来成象，而且可以通过信号处理方法，获得多种图象的特殊显示方法，还可以从试样的表面形貌获得多方面资料。因为扫描电子象不是同时记录的，它是分解为近百万个逐次依此记录构成的，因而使得扫描电子显微镜除了观察表面形貌外，还能进行成分和元素的分析，以及通过电子通道花样进行结晶学分析，选区尺寸可以从10μm到2μm。扫描电镜的真空系统由机械泵与油扩散泵组成。

扫描电镜观察生物试样。因电子照射而发生试样的损伤和污染程度很小。同其他方式的电子显微镜比较，因为观察时所用的电子探针电流小（一般约为10- 10～10- 12A）电子探针的束斑尺寸小（通常是5 nm到几十纳米），电子探针的能量也比较小（加速电压可以小到2 kV），而且不是固定一点照射试样，而是以光栅状扫描方式照射试样，因此，由于电子照射而发生试样的损伤和污染程度很小，这一点对观察一些生物试样特别重要。扫描式电子显微镜（SEM）中的电子束尽量聚焦在样本的一小块地方，然后一行一行地扫描样本。入射的电子导致样本表面散发出电子，显微镜观察的是这些每个点散射出来的电子。由于这样的显微镜中电子不必透射样本，因此其电子加速的电压不必非常高。场发射扫描电子显微镜是一种比较简单的电子显微镜，它观察样本上因强电场导致的场发射所散发出来的电子。扫描电镜这部分主要由电子枪、电磁透镜、扫描线圈、样品室组成。四川推荐的扫描电镜检测

扫描电镜样品制备过程简单，不用切成薄片。江苏细胞扫描电镜拍照

扫描电镜离子溅射镀膜法 在低真空(0.1～0.01托)状态下，在阳极与阴极两个电极之间加上几百至上千伏的直流电压时，电极之间会产生辉光放电。在放电的过程中，气体分子被电离成带正电的阳离子和带负电的电子，并在电场的作用下，阳离子被加速跑向阴极，而电子被加速跑向阳极。如果阴极用金属作为电极(常称靶极)，那么在阳离子冲击其表面时，就会将其表面的金属粒子打出，这种现象称为溅射。此时被溅射的金属粒子是中性，即不受电场的作用，而靠重力作用下落。如果将样品置于下面，被溅射的金属粒子就会落到样品表面，形 成一层金属膜，用这种方法给样品表面镀膜，称为离子溅射镀膜法。 和真空镀膜法比较，离子溅射镀膜法具有以下优点：(1)由于从阴极上飞溅出来的金属粒子的方向是不一致的，因而金属粒子能够进入到样品表面的缝隙和凹陷处，使样品表面均匀地镀上一层金属膜，对于表面凹凸不平的样品，也能形成很好的金属膜，且颗粒较细。(2)受辐射热影响较小，对样品的损伤小。(3)消耗金属少。(4)所需真空度低，节省时间。 江苏细胞扫描电镜拍照

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