重庆双光子增材制造
光学和光电组件的小型化对于实现数据通信和电信以及传感和成像的应用至关重要。通过传统的微纳3D打印来制作自由曲面透镜等其他新颖设计会有分辨率不足和光学质量表面不达标的缺陷,但是利用双光子聚合原理则可以完美解决这些问题。该技术不仅可以用于在平面基板上打印微纳米部件,还可以直接在预先设计的图案和拓扑上精确地直接打印复杂结构,包括光子集成电路,光纤顶端和预制晶片等。Nanoscribe带领全球高精度微纳米3D打印。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商,拥有多项技术,为全球客户提供整套硬件,软件,打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商,拥有多项技术,为全球客户提供整套硬件,软件,打印材料和解决方案一站式服务。 Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨3D打印和增材制造原理。重庆双光子增材制造
增材制造技术使用能源有激光、电子束、紫外光等,采用的材料有树脂、塑料、金属、陶瓷、蜡等,因其采用的成型方法和使用的成型材料以及依靠的凝结热源不同,现在主要分为四类:分层实体制造(LOM)工艺技术;立体光刻(SLA)工艺技术;选择性激光烧结(SLS)工艺技术;熔融沉积成型(FDM)工艺技术。无模具快速自由成型,制造周期短,小批量零件生产成本低。增材制造技术因为只需要有加工原料和加工设备就能够进行产品加工,不需要机械加工和工装模具,可以实现一次成型,节约了零件的不同工序加工和组装消耗的时间,进行单件小批量的生产时,增材制造的成本低。传统加工制造需要原料采购、准备,并且加工过程中还需要不同工序的轮换加工,加工完后还需要进行零件的组装等等,而这无形之间延长了产品的生产周期,同时也不经济。 重庆双光子增材制造如需了解增材制造技术发展趋势和应用,请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。
虽然半导体行业一直在使用3D打印技术,我们可能会有一个疑问,为什么我们没有听说,一个因素是竞争。如果全球只有四个庞大的大型公司,它们构成了光刻或制造机器的主要部分,那么这些公司并没有告诉外界关于他们应用3D打印技术的内幕,因为他们想确保的竞争优势。至少,对外界揭示其优化设备性能的技术,这种主观动机并不强。增材制造改善半导体工艺是多方面的,从轻量化,到随形冷却,再到结构一体化实现,根据3D科学谷的市场观察,增材制造使得半导体设备中的零件性能迈向了一个新的进化时代!在许多情况下,3D打印-增材制造可能使这些系统能够更接近理论上预期的工作环境,而不是在机器操作上做出妥协。3D打印带来的直接好处包括更高的精度、更高的生产能力、更快的周期时间,甚至使得每台机器每周生产更多的晶圆。某些情况下,还将看到整个晶片的成像质量更高。这将意味着更少的浪费和更高质量的产品。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特别高分辨率的3D无掩模光刻技术,用于快速,特别高精度的微纳加工,可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作;也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下,实现不同参数的创新3D结构的制作。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您深度解读增材制造技术。
世界上头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合,从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制,自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点,您可以进行几乎任何形状,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的创新设计。3D打印(3D Printing),又称作增材制造,是一种用digital file (数字文件) 生成一个三维物体的过程。重庆双光子增材制造
Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您解析增材制造的技术。重庆双光子增材制造
Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件,可以直接作为原型使用,也可以作为批量生产母版工具。重庆双光子增材制造
纳糯三维科技(上海)有限公司位于中国(上海)自由贸易试验区加枫路26号108室。公司自成立以来,以质量为发展,让匠心弥散在每个细节,公司旗下PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统深受客户的喜爱。公司注重以质量为中心,以服务为理念,秉持诚信为本的理念,打造仪器仪表良好品牌。纳糯三维立足于全国市场,依托强大的研发实力,融合前沿的技术理念,飞快响应客户的变化需求。
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