上海高分辨率增材制造无掩膜激光直写

时间:2022年02月21日 来源:

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件,可以直接作为原型使用,也可以作为批量生产母版工具。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司欢迎你一起探讨增材制造技术的现状和未来趋势。上海高分辨率增材制造无掩膜激光直写

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    QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点,同时缩短创新微纳光学器件(如衍射和折射光学器件)的整体制造时间。 上海高分辨率增材制造无掩膜激光直写走进Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司学习增材制造技术。

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Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。光学和光电组件的小型化对于实现数据通信和电信以及传感和成像的应用至关重要。通过传统的微纳3D打印来制作自由曲面透镜等其他新颖设计会有分辨率不足和光学质量表面不达标的缺陷,但是利用双光子聚合原理则可以完美解决这些问题。该技术不仅可以用于在平面基板上打印微纳米部件,还可以直接在预先设计的图案和拓扑上精确地直接打印复杂结构,包括光子集成电路,光纤顶端和预制晶片等。

相较于传统生产方式,增材制造能有效降低生产成本与进入门槛。举例来说,制造业应用广的CNC 数控机床加工在全球范围内存在人才短缺问题,且其必备的专业操作人员是沉重的人力成本来源,这也是中小型生产厂家难以与规模较大的竞争对手匹敌的重要原因。 与之形成对比的增材制造技术,对于专业操作人员的要求则不那么高,因为增材设备更加简单、编程相对容易,也因此长期来说操作成本更低。此外,增材制造突破生产的地域限制,您可以在瑞士进行编程设计后,发到国内或其他地区生产,而这在需要诸多工装夹具的传统制造领域是难以实现的。传统制造中更换加工零件既耗时又费力。举例而言,CNC数控机床经常需要花费数十分钟到几个小时才能完成零件的替换。而增材制造可以一次成型多个产品,不同制造作业间可真正达到无缝替换,而每次替换的时间至多可缩短到几分钟内。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司邀您了解增材制造工艺的分类。

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 Nanoscribe基于双光子聚合技术的3D打印技术为构建具有自由形状和复杂特征的零件提供了极大的自由度,可直接根据CAD模型制造成品。若以传统方式来制造这些设计复杂的零件,则显得非常不切实际,甚至根本不可能完成。增材制造技术制造的零件往往更轻、更高效且能够更好地发挥工作性能。然而,这并不是说这种灵活性能够让我们随心所欲地设计任何想要的形状,至少在成本的约束下,我们也不可能做到这一点。Nanoscribe所具备的纳米标记系统基于双光子吸收,这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体,使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体,其中吸收的光的强度比较高。 更多增材制造的信息,请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。上海高分辨率增材制造无掩膜激光直写

Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您讲解3D打印增材制造技术。上海高分辨率增材制造无掩膜激光直写

    光学和光电组件的小型化对于实现数据通信和电信以及传感和成像的应用至关重要。通过传统的微纳3D打印来制作自由曲面透镜等其他新颖设计会有分辨率不足和光学质量表面不达标的缺陷,但是利用双光子聚合原理则可以完美解决这些问题。该技术不仅可以用于在平面基板上打印微纳米部件,还可以直接在预先设计的图案和拓扑上精确地直接打印复杂结构,包括光子集成电路,光纤顶端和预制晶片等。Nanoscribe带领全球高精度微纳米3D打印。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商,拥有多项技术,为全球客户提供整套硬件,软件,打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商,拥有多项技术,为全球客户提供整套硬件,软件,打印材料和解决方案一站式服务。 上海高分辨率增材制造无掩膜激光直写

纳糯三维科技(上海)有限公司致力于仪器仪表,是一家生产型公司。公司业务分为PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等,目前不断进行创新和服务改进,为客户提供良好的产品和服务。公司从事仪器仪表多年,有着创新的设计、强大的技术,还有一批**的专业化的队伍,确保为客户提供良好的产品及服务。在社会各界的鼎力支持下,持续创新,不断铸造***服务体验,为客户成功提供坚实有力的支持。

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