苏州晶间腐蚀
电解抛光腐蚀仪利用电化学原理进行金相样品的制备，该设备工作电压、电流范围大，功能齐全，既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快、重复性好等优点，是钢铁，尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备，用户的计算机可直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、存档、打印处理。电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀，主要用于各大中院校、环保、科研、卫生、防疫、石油、治金、化工、医疗等设备，本仪器性能好，无噪声。低倍加热腐蚀温度控制精度：误差±1℃。苏州晶间腐蚀
晶间腐蚀涌入，主要由于晶粒表面和内部间化学成分的差异以及晶界杂质或内应力的存在。晶间腐蚀破坏晶粒间的结合，降低金属的机械强度。而且腐蚀发生后金属和合金的表面仍保持一定的金属光泽，看不出被破坏的迹象，但晶粒间结合力明显减弱，力学性能恶化, 不能经受敲击，所以是一种很危险的腐蚀。通常出现于黄铜、硬铝合金和一些不锈钢、镍基合金中。不锈钢焊缝的晶间腐蚀是化学工业的一个重大问题。不锈钢在腐蚀介质作用下，在晶粒之间产生的一种腐蚀现象称为晶间腐蚀。四川盐酸腐蚀按钮操作电解抛光腐蚀，电压、电流随时间变化的曲线。
电解抛光腐蚀，电解浸蚀参考资料
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试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
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铝和铝合金 |
蒸馏水 90ml磷酸（1.71） 10ml |
1~8V |
5~10秒 |
不锈钢 |
纯铝，铝一铜，铝一？铝一？硅合金 |
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铜 |
正磷酸/蒸馏水=2：1 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
除锡青铜外的合金 |
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黄铜 |
正磷酸/水=3：5 |
0.01A/cm2 16~27。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜，β黄铜 |
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黄铜 |
正磷酸/水=4：6 |
0.08~0.012A/cm2 24。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜 |
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黄铜 |
正磷酸/硫酸（浓）/蒸馏水=67：10：23 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
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青铜 |
正磷酸/硫酸（浓）/蒸馏水=47：20：33 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
电解抛光腐蚀原理，关于电解抛光原理的争论很多，被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时，靠近试样阳极表面的电解液，在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜，这种薄膜在工件的凸起处较薄，凹处较厚，此薄膜具有很高的电阻，因凸起处薄膜薄而电阻小，电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大，电流密度低而溶解慢，由于溶解速度的不同，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被平整，然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜，而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线，根据它可以决定合适的电解抛光规范。电解抛光腐蚀，利用电化学原理进行金相样品的制备。
电解抛光腐蚀， 贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
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浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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王水 |
交流电：6伏 另一电板：石墨 |
铂及其合金、铑及其合金的电解浸蚀。 |
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稀王水： 盐酸 25亳升 硝酸 8.3亳升 水 65.7亳升 |
交流电：6~10伏 电流密度：1.5~2.0安/厘米2 时间：8~10分钟 另一电极：纯铂 |
铂、铱的电解浸蚀。 |
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盐酸 20亳升 氯化钠 25无 水 65亳升 |
交流电：6伏 另一电极：石墨 时间：1分钟 |
铂、铂钉、铂铱合金的电解浸蚀。 |
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盐酸 20亳升 甘油 5亳升 水 70亳升 |
交流电：6伏 另一电极：石墨 时间：30分钟 |
铱及铱铑合金的电解浸蚀。 |
电解抛光腐蚀，电流、电压精度高，精确到小数点后两位。四川低倍加热腐蚀公司
晶间腐蚀，有漏电和短路保护。苏州晶间腐蚀
晶间腐蚀检验方法：晶间腐蚀检验在进行检测的时候都要按照标准进行测试的，首先需对其加工标准进行检测，其次就是对测试材料的性能进行检测，晶间腐蚀是材料的一种性能，那么对于它的取样方法和对结果的判定，我们其实就可以根据以下内容来操作，小编总结了相关专业人士的想法为大家简单的介绍下，希望能对您有帮助。晶间腐蚀检验的试样是有表面粗糙度的要求的，可以根据国标要求进行加工，因为试样尺寸有要求，所以建议在加工试样时就可以将试样加工到需要要求，而不用自己再去用砂纸打磨；苏州晶间腐蚀
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