山西EVG6200 NT光刻机

IQAligner®NT特征：零辅助桥接工具-双基板概念，支持200mm和300mm的生产灵活性吞吐量>200wph（手次打印）间端对准精度：顶侧对准低至250nm背面对准低至500nm宽带强度>120mW/cm²（300毫米晶圆）完整的明场掩模移动（FCMM）可实现灵活的图案定位并兼容暗场掩模对准非接触式原位掩膜到晶圆接近间隙验证超平坦和快速响应的温度控制晶片卡盘，出色的跳动补偿手动基板装载能力返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统远程技术支持和GEM300兼容性智能过程控制和数据分析功能[FrameworkSoftwarePlatform]用于过程和机器控制的集成分析功能设备和过程性能根踪功能并行/排队任务处理功能智能处理功能发生和警报分析智能维护管理和根踪IQ Aligner NT 光刻机系统使用零辅助桥接工具-双基片，支持200mm和300mm尺寸的晶圆。山西EVG6200 NT光刻机

EVG120光刻胶自动处理系统附加模块选项预对准：光学/机械ID读取器：条形码，字母数字，数据矩阵系统控制：操作系统：Windows文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数/离线程序编辑器灵活的流程定义/易于拖放的程序编程并行处理多个作业/实时远程访问，诊断和故障排除多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR分配选项：各种光刻胶分配泵，可覆盖高达52000cP的粘度液体底漆/预湿/洗盘去除边缘珠（EBR）/背面冲洗（BSR）恒压分配系统/注射器分配系统电阻分配泵具有流量监控功能可编程分配速率/可编程体积/可编程回吸超音波江苏原装进口光刻机EVG在1985年发明了世界上弟一个底部对准系统，对准晶圆键合和纳米压印光刻技术方面开创并建立了行业标准。

EVG620NT或完全容纳的EVG620NTGen2掩模对准系统配备了集成的振动隔离功能，可在各种应用中实现出色的曝光效果，例如，对薄而厚的光刻胶进行曝光，对深腔进行构图并形成可比的形貌，以及对薄而易碎的材料（例如化合物半导体）进行加工。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。EVG620NT特征：晶圆/基板尺寸从小到150mm/6''系统设计支持光刻工艺的多功能性易碎，薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理，更换时间短带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列

EVG光刻机简介：EVG在1985年发明了世界上弟一个底部对准系统，可以在顶部和双面光刻，对准晶圆键合和纳米压印光刻技术方面开创并建立了行业标准。EVG通过不断开发掩模对准器来为这些领域做出贡献，以增强蕞重要的光刻技术。EVG的掩模对准目标是容纳高达300mm的不同的尺寸，形状和厚度的晶圆和基片，同时为高级应用提供高科技含量的有效解决方案，并为研发提供充分的灵活可选性。EVG光刻机的掩模对准器和工艺能力经过现场验证，安装并完美集成在全球各地的用户系统中，可在众多应用场景中找到，包括高级封装，化合物半导体，功率器件，LED，传感器和MEMS。EVG的大批量制造系统目的是在以蕞佳的成本效率与蕞高的技术标准相结合，为全球服务基础设施提供支持。

EVG120特征2：先进且经过现场验证的机器人具有双末端执行器功能，可确保连续的高产量；工艺技术桌越和开发服务：多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）智能过程控制和数据分析功能[FrameworkSWPlatform]用于过程和机器控制的集成分析功能设备和过程性能根踪功能；并行/排队任务处理功能；智能处理功能；发生和警报分析；智能维护管理和根踪；技术数据：可用模块；旋涂/OmniSpray®/开发；烤/冷；晶圆处理选项：单/双EE/边缘处理/晶圆翻转；弯曲/翘曲/薄晶圆处理。除了光刻机之外，岱美还代理了EVG的键合机等设备。微流体光刻机研发生产

EVG光刻机设备，可完全集成到HERCULES光刻轨道系统中，并辅以其用于从上到下侧对准验证的计量工具。山西EVG6200 NT光刻机

仪器仪表行业已经连续多年保持了经济高位运行的态势。即使当全球受金融风暴的影响，各个行业经济东圃有所放缓，但从全景发展情况看来，仪表行业的增长速度并没有放缓。随着网络消费的不断递增，而互联网的的商业价值不断被挖掘出来，呈爆发式增长，传统的营销模式将逐步被取代。其他有限责任公司企业要抓住机遇，融入到互联网发展的行业中，为行业的发展提高竞争力。半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪产业是国民经济的基础性、战略性产业，是信息化和工业化深度融合的源头，对促进工业转型升级、发展战略性新兴产业、推动现代**建设、保证和提高大家生活水平具有重要作用。我们必须承认，在科学仪器上，我们跟其他地区相比，还有很大的差距。这个差距，就是我们提升的空间。合相关部门、大学和企业之力，中国的贸易型必将在不远的将来，在相关领域的基础研究和重点光学部件研发上取得突破，产品进入世界中**水平，企业得到台阶式上升，迎头赶上，与全球出名企业并驾齐驱。山西EVG6200 NT光刻机

岱美仪器技术服务（上海）有限公司发展规模团队不断壮大，现有一支专业技术团队，各种专业设备齐全。在岱美中国近多年发展历史，公司旗下现有品牌EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB等。公司坚持以客户为中心、磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 市场为导向，重信誉，保质量，想客户之所想，急用户之所急，全力以赴满足客户的一切需要。诚实、守信是对企业的经营要求，也是我们做人的基本准则。公司致力于打造***的半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪。