杭州大功率三极管生产商

正向放大区（或简称放大区）：当发射结正向偏置，集电结反向偏置时，晶体管工作在放大区。大多数双极性晶体管的设计目标，是为了在正向放大区得到大的共射极电流增益。晶体管工作在这一区域时，集电极-发射极电流与基极电流近似成线性关系。由于电流增益的缘故，当基极电流发生微小的扰动时，集电极-发射极电流将产生较为有名变化。反向放大区：当发射结反向偏置，集电结正向偏置时，晶体管工作在反向放大区。此时发射区和集电区的作用与正向放大区正好相反，但由于集电区的掺杂浓度低于发射区，反向放大区产生的放大效果小于正向放大区。而大多数双极性晶体管的设计目标是尽可能得到大正向放大电流增益，因此在实际这种工作模式几乎不被采用。“Triode”（电子三极管）这个是英汉词典里面 “三极管” 的英文翻译。杭州大功率三极管生产商

BVCEO是三极管基极开路时，集电极-发射极反向击穿电压。如果在使用中加在集电极与发射极之间的电压超过这个数值时，将可能使三极管产生很大的集电极电流，这种现象叫击穿。三极管击穿后会造成性损坏或性能下降。 PCM是集电极大允许耗散功率。三极管在工作时，集电极电流在集电结上会产生热量而使三极管发热。若耗散功率过大，三极管将烧坏。在使用中如果三极管在大于PCM下长时间工作，将会损坏三极管。需要注意的是大功率三极管给出的大允许耗散功率都是在加有一定规格散热器情况下的参数。珠海场效应三极管接线图三极管排列方式有PNP和NPN两种。

三极管的工作原理：放大原理因三极管三个区制作工艺的设定以及内部的两个PN结相互影响，使三极管呈现出单个PN结所没有的电流放大的功能。外加偏置电源配置：要求发射结正偏，集电结反偏。三极管在实际的放大电路中使用时，还需要外加合适的偏置电路。原因是：由于三极管BE结的非线性，基极电流必须在输入电压大到一定程度后才能产生(对于硅管，常取0.7v)。当基极与发射极之间的电压小于0.7v时，基极电流就可以认为是0。放大区的特点是，随着IB的增加，IC也增加，IC主要受控于IB，与VCE关系不大，上图清晰地描述了这个现象。通俗点说就是用IB来控制IC，所有三极管是电流控制型器件。还是以水杯模型来加深记忆，放大状态的水杯中，不管水杯高度VCE是多高，IC的高度只受控于IB。

选用三极管需要了解三极管的主要参数。若手中有一本晶体管特性手册好。三极管的参数很多，其中必须了解的四个极限参数：ICM、BVCEO、PCM、fT、TON TOFF 等，可满足95%以上的使用需要。ICM是集电极大允许电流。三极管工作时当它的集电极电流超过一定数值时，它的电流放大系数β将下降。为此规定三极管的电流放大系数β变化不超过允许值时的集电极大电流称为ICM。所以在使用中当集电极电流IC超过ICM时不至于损坏三极管，但会使β值减小，影响电路的工作性能。三极管发射区和基区之间的PN结叫发射结，集电区和基区之间的PN结叫集电结。

三极管单纯从“放大”的角度来看，我们希望 β 值越大越好。可是，三极管接成共发射极放大电路时，从管子的集电极 c 到发射极 e 总会产生一有害的漏电流，称为穿透电流 I ceo ，它的大小与 β 值近似成正比， β 值越大， I ceo 就越大。 I ceo 这种寄生电流不受 I b 控制，却成为集电极电流 I c 的一部分， I c ＝ βI b ＋ I ceo 。值得注意的是， I ceo 跟温度有密切的关系，温度升高， I ceo 急剧变大，破坏了放大电路工作的稳定性。所以，选择三极管时，并不是 β 越大越好，一般取硅管 β 为 40 ～ 150 ，锗管取 40 ～ 80 。两侧部分是发射区和集电区，排列方式有PNP和NPN两种。原装三极管厂家直销

开关三极管的外形与普通三极管外形相同，主要用于电路的关与通的转换。杭州大功率三极管生产商

在制造三极管时，有意识地使发射区的多数载流子浓度大于基区的，同时基区做得很薄，而且，要严格控制杂质含量，这样，一旦接通电源后，由于发射结正偏，发射区的多数载流子（电子）及基区的多数载流子（空穴）很容易地越过发射结互相向对方扩散，但因前者的浓度基大于后者，所以通过发射结的电流基本上是电子流，这股电子流称为发射极电子流。由于基区很薄，加上集电结的反偏，注入基区的电子大部分越过集电结进入集电区而形成集电极电流Icn，只剩下很少（1-10%）的电子在基区的空穴进行复合，被复合掉的基区空穴由基极电源Eb重新补给，从而形成了基极电流Ibn。杭州大功率三极管生产商

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