张家港哑光硬质氧化厂

硬质阳极氧化合金成分影响膜均匀完整，如何处理?铝铜、铝硅、铝锰合金，硬质阳极氧化困难较大；当合金中铜含量超过5％或硅含量超过7．5％时，不适合用直流电硬质阳极化。处理方法：当采用交直流叠加方法时，含量范围可以放宽。硬质阳极氧化电流密度不当怎样影响膜硬度?如何处理?影响：①电流密度超过8A／dm2时，因受发热量的影响，硬度反而下降；②电流密度太低，电压升高得慢，虽发热量减少，但膜层受到硫酸的化学溶解时间较长，所以硬度较低。处理方法：电流密度和膜层硬度的关系比较复杂，欲得到理想硬度的膜层，就要根据不同材料来选择适当的电流密度，通常为2～5A／dm2。硬质氧化，就选昆山显荣电子工业有限公司，让您满意，有想法可以来我司咨询！张家港哑光硬质氧化厂

在铝硬质氧化染色整个流程中，因为氧化工艺原因造成染色不良是比较普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均匀一致是染色时获得均匀一致颜色的前提和基础，为获得均匀一致的氧化膜，保证足够的循环量，冷却量，保证良好的导电性是举足轻重的，此外就是氧化工艺的稳定性。硫酸浓度，控制在180—200g／l。稍高的硫酸浓度可促进氧化膜的溶解反应加快，利于孔隙的扩张，更易于染色；铝离子浓度，控制在5—15g／l。铝离子小于5g／l，生成的氧化膜吸附能力降低，影响上色速度，铝离子大于15g／l时，氧化膜的均匀性受到影响，容易出现不规则的膜层。铝硬质氧化温度，控制在20℃左右，氧化槽液的温度对染色的影响非常明显，过低的温度致使氧化膜的膜孔致密，染色速度明显减缓；温度过高，氧化膜蔬松，容易粉化，不利于染色的控制，氧化槽的温差变化应在2℃以内为宜。张家港哑光硬质氧化厂硬质氧化，就选昆山显荣电子工业有限公司，用户的信赖之选，有需要可以联系我司哦！

硬质氧化全称是硬质阳极氧化处理。硬质阳极氧化膜一般要求厚度为25-150um，大部分硬质阳极氧化膜的厚度为50-80um，膜厚小于25um的硬质阳极氧化膜，用于齿键和螺线等使用场合的零部件，耐磨或绝缘用的阳极氧化膜厚度约为50um，在某些特殊工艺条件下，要求生产厚度为125um以上的硬质阳极氧化膜，但是必须注意阳极氧化膜越厚，其外层的显微硬度可以越低，膜层表面的粗糙度增加。硬质阳极氧化的槽液，一般是硫酸溶液以及硫酸添加有机酸，如草酸、氨基磺酸等。另外，可通过降低阳极氧化温度或降低硫酸浓度来实现硬质阳极氧化处理。对于铜含量大于5%或硅含量大于8%的变形铝合金，或者高硅的压铸造铝合金，也许还应考虑增加一些阳极氧化的特殊措施。例如：对于2XXX系铝合金，为了避免铝合金在阳极氧化过程中被烧损，可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作为电解槽液，电流密度也应该提高到2.5A/dm以上。

硬质氧化的氧化处理的温度：温度是影响氧化膜质量的重要因素之一。严格控制温度,其氧化膜增厚,硬度提高且光滑、致密。电流密度：电流也是影响氧化膜质量的重要因素之一,它与氧化膜的生成速度、氧化膜的组织有较大关系.电流密度过低时,氧化膜的生成速度缓慢,处理时间增加；反之,过高时,会导致溶液和电极因焦耳效应而过热.使氧化膜溶解速度增加,硬度下降,表面粗糙、疏松起粉。初始电压与处理时间：硬质阳极氧化处理的初始电压与时间对氧化膜质量的影响也是很大的.初始电压过大,会导致电流的增加,焦耳热和生成热剧增,促使溶解速度猛增,氧化膜则软,无光泽,起粉,不耐磨.对于氧化处理时间,一般是随着氧化处理时间的延长,氧化膜厚度增加,但到一定时间后,若不增加外加电压,氧化膜实际不增加.如果继续延长时间,则氧化膜硬度低,疏松起粉,相反,氧化处理时间太短,氧化膜厚度薄且不耐磨。昆山显荣电子工业有限公司于提供硬质氧化，有需求可以来电咨询！

硬质氧化主要应用于要求高耐磨、耐热、绝缘性能好等得铝和铝合金零件上。如各种作为圆筒得内壁，活塞、汽塞、汽缸、轴承、飞机货舱得地板、滚棒和导轨、水利设备、蒸汽叶轮、适平机、齿轮和缓冲垫等零件。用硬质氧化工艺来代替传统得镀硬铬镀层，与硬铬工艺相比它具有成本低，膜层结合牢固，镀液，清洗废液处理方便等优点。但此工艺所得膜层得缺点是膜层厚度较大时，对铝和铝合金得机械疲劳强度指标有所影响。硬质氧化得硬质阳极氧化电解方法很多，例如：硫酸、草酸、丙二醇、磺基水杨酸及其它得无机盐和有机酸等。所用电源可分为直流、交流和交直流叠加电源等几种，目前普遍应用得有下列两种硬质阳极氧化。昆山显荣电子工业有限公司硬质氧化服务值得放心。松江哑光硬质氧化生产

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在进行硫酸硬质阳极氧化时应注意以下几点。①氧化之前，启动冷却装置将电解液冷却至工艺规定范围，开启抽气系统和打气装置。②将氧化工件装夹牢固，使其在加工过程中不得有松动脱落现象发生。工件装夹应合理，以保证氧化电流分布均匀。工件间应有一定间距，以利于热量传递。各挂具和阳极导电杠确保导电良好。工件和阴极应有一定距离，切不可有短接现象发生。③采用恒电流法。氧化开始时电流密度一般为0.3～0.5A/dm²，在25min内，分5～10次逐渐升高至2.5A/dm²（或工艺规定的电流密度），保持电流密度恒定，每隔5min观察并调整一次电流密度直到氧化结束。开始时氧化电压一般取6～9V，电压视氧化膜厚度而定。④在氧化过程中应随时观察电压与电流变化情况。如发现电压突降，说明有部分工件氧化膜被溶解击穿，应立即断电，取出氧化膜已被溶解击穿的工件，其余工件再继续氧化。张家港哑光硬质氧化厂