宁夏超纯水设备方案

反渗透纯净水设备主要工艺流程说明：1、原水箱(可选)反渗透纯水设备流程图：原水储存，用于沉淀水中较大的泥沙颗粒和其他可沉淀物质。同时可以缓冲原水管道水压不稳定对水处理系统的影响（如水压过低或过高引起压力传感器的反应）。2、原水泵：系统供水压力恒定，供水稳定。3、多介质过滤器：多过滤层过滤器主要用于去除原水中的沉淀物、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒物在20um以上的物质。反冲洗、正向冲洗等操作可选用手动阀控或全自动控制器。保证反渗透纯水设备的水质，延长反渗透纯净水设备的使用寿命。超纯水中的电解质含量非常低，因此其电导率也很小。宁夏超纯水设备方案

反渗透纯水设备是围绕反渗透膜组织的一套水处理系统。一套完整的反渗透系统由预处理部分、反渗透主机(膜过滤部分)、后处理部分和系统清洗部分组成。后处理部分主要是对反渗透主体机理取的纯水进行进一步处理。如果后续工艺与离子交换或EDI设备连接，可以生产工业超纯水。如果用在民用直饮水工艺中，往往要连接一个后杀菌装置，比如紫外线杀菌灯或者臭氧发生器，这样水就可以直接饮用了。使用反渗透纯水设备，原水泵开关，拨在自动位置，并旋开停机开关。接通水源、电源，待多级泵口压力达到压力控制器设定值时，多级泵启动工作。多级泵启动后，调系统压力在1.0-1.2Mpa。开始启动应对RO膜系统进行手动冲洗30分钟。海南制药纯水设备装置超纯水设备是用于制备超纯水的设备，它的主要目标是去除水中的几乎所有离子、有机和无机物质。

反渗透纯水设备的清洗方法：压冲洗技术清洗法：在日常生活中我们在使用反渗透纯水设备的同时也要冲洗设备，因为长时间使用会造成反渗透纯水设备污染导致设备不能正常工作。我们应该定期采用低压冲洗技术对设备表面污垢进行清洗。化学清洗法：反渗透纯水设备的膜式表面很容易被一些微生物或无机物覆盖影响运行能力，我们理想的清理时间是每半年清洗一次，如果反渗透纯水设备每个月都需要清洗一次，说明我们需要调整设备参数，改善预处理系统了，为此化学清洗纯水设备的膜也是保护纯水设备系统的一种方法。停止设备运行保护法：长期运行设备，反渗透纯水设备技术会出现波动，纯水设备一旦处理不合理会导致设备的膜性能下降，严重可能导致不能使用。我们在短时间采取保护措施，适当停止设备运行也是设备清洗保护的一种方法。

6、医药纯水设备--去离子(EDI)电去离子水装置也属于离子交换体系(EDI)，是一种离子交换的新办法，这种离子体系运用一个混和树脂床，选用挑选性的浸透膜以及充电器，以保证水处理的接连进行和树脂的接连再生，处理工艺为，原水首要进入树脂段，当水经过树脂时，被脱去金属电荷离子，成为产品水，这种体系运用的树脂能够看作为一个导体，在电位势能的效果下，迫使被俘获的阴、阳离子经过树脂和浸透膜而浓缩，并从水流中脱出。与此同时，在树脂段中，电位的势能又将水电解成氢氧根离子，从而使树脂得以接连再生，且不需要添加再生剂。因此，在使用过程中一定要掌握好压力。压力太小会降低效率，但压力太大会影响设备的使用期限。

在晶体管和集成电路的半导体行业生产中，超纯水主要用于清洗硅片，少量用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、一些设备的冷却水、制备电镀液等。集成电路生产中80%的工序都需要用高纯水来清洗硅片，水质的好坏与集成电路产品的质量和生产量有很大关系。在电子元器件的生产中，超纯水主要用于清洗水和用于配制各种溶液、浆液，不同的电子元器件在生产中对纯水和水质的要求是不同的。半导体纯水设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成，可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足半导体行业用水需求。运行时间过长，设备中材料的温度会升高，在一定温度范围内温度高，材料的粘度会降低，反而有助于水的生产。吉林工业单级纯水设备方案

例如电池制造、半导体设备、兽药生产、化工企业等都要高纯水来保证产品品质。宁夏超纯水设备方案

三种医疗器械纯化水设备工艺比较三种医疗器械纯化水设备基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的优缺点分别列于下：1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方小，但缺点就是需要经常进行离子再生，再生时间较长，影响后段生产工序的用水，且再生耗费大量酸碱，对环境有一定的破坏。2、第二种采用二级反渗透处理工艺，其特点为投资成本较采用离子交换高，出水水质稳定，水质能够满足中国药典和欧洲药典要求，但出水水质不能满足美国药典要求。3、第三种采用二级反渗透+EDI处理工艺，其特点为出水水质稳定，水质能够满足各国药典对于纯化水的要求。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。宁夏超纯水设备方案