药物递送微射流均质机原理

高剪切乳化机比较适合处理含纤维较多或者较硬的颗粒物料，混料、杀菌、均质可同时完成。刘俊梅等采用高剪切乳化技术处理大豆蛋白，使蛋白颗粒较大程度上减小，疏水基团暴露，有利于形成凝胶网络，可以明显提高大豆分离蛋白凝胶持水性。郭维静等通过高速剪切乳化技术处理玉米蛋白粉来改变蛋白粉的物理特性，可以明显降低颗粒大小，提高流变性和溶解度，提高淀粉降解率和蛋白质水解度，有效抑制了果蔬汁的分层现象。高剪切乳化机普遍应用于粘度较大、乳化要求较高的产品，如果酱、果茶等。微射流均质机在制药行业中，尤其适用于细胞破壞和药物纳米化处理。药物递送微射流均质机原理

均质阀处理样品过程中，1）从狭缝中喷出的瞬间由于存在（1000bar以上）压力降；2）样品喷出后与冲击环内侧的撞击力及粒子之间的剪切力共同作用，使粒子达到粒径减小的效果。过程中均质阀座与均质阀芯之间的狭缝大小，直接影响样品冲破缝隙所承受的阻力，此阻力的大小即为均质的压力，一般来说阻力越大，即均质压力越高、喷出速度越高，所形成的粒子间剪切力、与冲击环之间的撞击力也越强，均质能力就越强，粒径就越小。而均质压力大小的调节通过手轮，调节均质阀座与均质阀芯之间的间距来实现。中山电池微射流均质机微射流均质机使产品颗粒更细致、均匀。

微射流高压均质机优势：1、微射流高压均质机是新一代的高压均质机，其独特的金刚石微孔道超音速对射流技术可以做到更小更均一的纳米级粒径，相较于普通高压均质机有能力做各行业中粒径分布要求极高、附加值较高的应用。2、微射流高压均质机的主要均质部件是金刚石交互容腔，与普通高压均质机可调节间隙的均质阀不同的是，其内部的微孔道是固定尺寸不可调节的，在使用同种型号金刚石交互容腔且是相同均质工艺参数条件下，可以保证批次间产品的粒径结果非常稳定。

碳纳米管分散。硅负极材料在锂合金化过程中发生的体积膨胀，效率并不是固定的，而是与硅材料颗粒尺寸紧密相关。纳米级尺寸的硅颗粒，由于其独特的表面效应和尺寸效应，可以缓解硅体积变化引发的颗粒破碎粉化。目前主流的降低硅材料粒径的方式是采用球磨，但是在球磨的过程中部分硅材料容易发生氧化，另外在球磨后材料也容易重新团聚。微射流R高压均质机处理可以获得更小的粒径分布的物料，并能起到很好的分散效果，在纳米硅材料的制备中有明显的作用。微射流均质机可以实现不同颗粒大小的均质处理。

高压均质机的原理，柱塞泵通过不断的往复运动，将物料吸入阀组中（图1）,柱塞可调节压力的大小。物料在高压下其流过缝隙时，液滴首先被延伸，后因通过阀体时的湍流作用，使延伸部分剪切拉碎。从阀缝中高速冲出的液流撞上挡圈，产生高速的撞击作用。同时，压力迅速大幅下降，产生很大的爆破力，瞬时引起空穴现象，强烈释放的能量和强烈的高频振动，使颗粒或液滴破碎，从而达到液体样品均质、粉碎和乳化的效果。液滴在料液进口处携带极高的静压能，在均质过程中，静压能转化成了动能，使液滴破裂。通过微射流均质，产品质量和稳定性得到提升。云南疫苗微射流技术

超高压微射流均质机能显著提高生物制药的溶解度和生物利用度。药物递送微射流均质机原理

高压微射流在CMP抛光液中的应用，化学机械抛光（CMP）技术具有独特的化学和机械相结合的效应，是在机械抛光的基础上，根据所要抛光的表面，加入相应的化学试剂，从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。化学机械抛光技术是迄今独一可以提供整体平面化的表面精加工技术，它是从原子水平上进行材料去除，从而获得超光滑和较低损伤表面，该技术普遍应用于光学元件、计算机硬盘、微机电系统、集成电路等领域。抛光液是化学机械抛光技术的关键之一，其性能直接影响着被抛光工件的表面质量。药物递送微射流均质机原理