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工业洁净室主要根据室内洁净度、气流形式、控制对象、室内净高和结构特点分类。按室内洁净度分类主要分为1级、10级、100级、10000级、10000级。按气流形式分类分为单向流、矢流式和乱流式。按控制对象分类分为工业洁净室和生物洁净室。前者以空气中的悬浮尘埃为控制对象，后者以悬浮生物粒子(微生物)为控制对象。按室内高度分类，分为低层洁净室和高层洁净室。前者室内净高低于3m，后者超过3m。乱流型洁净室室内空气状态一般与设有空调设备的室内空气一样由顶部送风，经设置在室内适当位置的回风口排风。这种送风方式是以稀释方法达到净化目的，即室内含尘空气被洁净空气稀释后，降低了粉尘浓度。乱流洁净室只要管理得当，就能达到10000级的洁净度。单向流洁净室主要特点是，气流速度低、流线平行、分布均匀、不扰乱室内空气，因而地面、工作面无粒子飞扬，不易形成局部死角，悬浮状态粒子沿着一定流线随气流排出室外，可以达到较高的洁净等级，是理想的一种气流组织形式。单向流洁净室按气流流向又可分为垂直单向流洁净室和水平单向流洁净室。垂直单向流洁净室以高效过滤器作为送风口布满顶棚，地板全部作成回风口，使气流自上而下地流动。在这种洁净室中。
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洁净室系指对空气洁净度、温度、湿度、压力、噪声等参数根据需要都进行控制的密闭性较好的空间。中文名洁净室外文名CleanRoom亦称无尘车间、无尘室主要功能控制空气污染应用场合精密机械工业、半导体工业等行业目录1简介2分类▪按气流的流动状态分▪按受控粒子的性质划分3实现洁净度要求的通风措施4洁净室气流组织考虑原则5洁净室的负荷特点和节能6洁净室设计对生产工艺的要求洁净室简介编辑洁净室的发展与现代工业、前列技术密切联系在一起。由于精密机械工业（如陀螺仪、微型轴承等加工）、半导体工业（如大规模集成电路生产）等对环境的要求，促进了洁净室技术的发展。国内曾统计过，在无洁净级别的要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率*10%~15%，64为储存器*2%。目前在精密机械、半导体、宇航、原子能等工业中应用洁净室已相当普遍。[1]洁净室分类编辑洁净室按气流的流动状态分根据气流的流动状态分，主要有以下三种气流分布的洁净室[1]：（1）非单向流洁净室：以前常称为乱流型洁净室，室内的气流并不都按单一方向流动。非单向流洁净室有几个共同的特点：终端过滤器（高效或亚高效）尽量接近洁净室，它可以就是送风口或直接连送风口，也可以接到房间的送风静压箱上。 gmp洁净室洁净室工程常用材料有哪些，欢迎致电上海中沃。
洁净室分类 编辑 洁净室按气流的流动状态分 根据气流的流动状态分，主要有以下三种气流分布的洁净室 [1] ： （1） 非单向流洁净室：以前常称为乱流型洁净室，室内的气流并不都按单一方向流动。非单向流洁净室有几个共同的特点：终端过滤器（高效或亚高效）尽量接近洁净室，它可以就是送风口或直接连送风口，也可以接到房间的送风静压箱上； 回风口均设在洁净室的下部，目的是避免出现“扬灰”现象。非单向流洁净室中都有涡流存在，不适宜用于高洁净度的洁净室中，宜用于6~9级的洁净室中。上海中沃电子科技有限公司供
洁净室吊顶需要做反支撑吗规范要求吊筋长度大于1.5m以上就要求做反向支撑了。如果长不是太多，也就是高度不是太夸张是不需要做反向支撑的。洁净室空调分类有哪些洁净室空调系统一般分为三大类：
1、集中式洁净空调系统 ：在系统内单个或多个洁净室所需的净化空调设备都集中在机房内，用送风管道将洁净空气配给各个洁净室。
2、分散式洁净空调系统：在系统内各个洁净室单独设置净化设备或净化空调设备。
3、半集中式洁净空调系统：在这种系统中，既有集中的净化空调机房，又有分散在各洁净室内的空气处理设备。是一种集中处理和局部处理相结合的形式。
人们一般按系统内各洁净室的洁净度来命名系统，如称之为100级净化空调系统，1000级净化空调系统等。
有时也按系统的末级过滤器的性质来区分：分高效空气净化系统，亚高效空气净化系统和中效空气净化系统。 洁净室的洁净度要达到多少？找上海中沃。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了，所以必须有±，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以***。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好温度范围为35—45%。气压规定对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。 洁净室用于哪些？找上海中沃。合肥洁净室厂家价格
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