嘉兴晶间腐蚀厂家批发
电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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混合酸水溶液: 磷酸 90亳升 硝酸 8亳升 水 2亳升 |
使用冰溶液。 |
适用于抛光和浸蚀Fe—A1合金(A1含量至16%) |
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硝酸水溶液: 硝酸 50亳升 水 50亳升 |
室温,使用电压1.5伏,2分钟使用通风橱 |
显示奥氏体或铁素体不锈钢的晶界。 |
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盐酸酒精溶液: 盐酸 10亳升 无水酒精 90亳升 |
10~30秒 电压6伏 |
显示σ铁和铬钢及CrNi钢的一组织。 |
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硫酸水溶液: 硫酸 5亳升 水 95亳升 |
室温,使用电压, 电流密度0.1~0.5安/厘米2,浸蚀时间5~15秒。 |
适用于Fe-Cr-Ni合金。 |
低倍组织热酸蚀腐蚀消 除了低倍组织制样过程的不确定性,提高低倍组织制样的重复性。嘉兴晶间腐蚀厂家批发
晶间腐蚀,国内外相关标准:GB/T4334.(1~5)-2000不锈钢晶间腐蚀敏感性试验方法标准(根据不同材料敏感性选择相应标准)GB/T15260-1994《镍合金晶间腐蚀敏感性试验方法标准》GB/T21433-2008《不锈钢压力容器晶间腐蚀敏感性检验》CB/T3949-2001《船用不锈钢焊接接头晶间腐蚀试验方法》ASTMG28-02(2008)StandardTestMethodsforDetectingSusceptibilitytoIntergranularCorrosioninWrought,NickelRich,ChromiumBearingAlloys(中文名称:《锻造高镍铬轴承合金晶间腐蚀敏感性的检查用标准试验方法》GB/T7998-2005《铝合金晶间腐蚀测定方法》HG/T3173-2002《尿素级很低碳铬镍钥奥氏体不锈钢晶间腐蚀倾向试验》陕西晶间腐蚀制样设备厂家电解抛光腐蚀,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。
晶间腐蚀,GB/T3246.1-2002 铝及铝合金加工制品显微组织检验方法,GB/T3246.2-2002 铝及铝合金加工制品低倍组织检验方法,GB/T7998-87 铝合金晶间腐蚀测定法, GB/T7998-2005 铝合金晶间腐蚀测定法生产中主要是过烧检验,特征为:复熔球、晶界三角、晶界加宽。晶粒度也是很重要的检验项目,经覆膜处理后在偏光下观察。请查阅GB/T3246-2000 由国家标准的。可以用NaOH溶液80~100g/L,室温下浸蚀3~30分钟。可以看到组织缺陷。软合金制品及铸轧板带浸蚀检测晶粒度:42%的HF5ml37%的HC175ml65%~68%的HNO3 25ml适当时间立即用水清洗。反复多次至晶粒清楚为止。
电解抛光腐蚀,电源前面板设有“设定电流”、“设定电压”、“工作”三个状态的“功能选择”开关a.“设定电压”:设定输出电压到需要值(此时未接通负载)先将“电流调节”顺时针调到最大值,然后调节“电压调节”至需要的电压值;“设定电流”:设定输出电流到需要值(此时未接通负载);将“电压调节”顺时针调到最大值;将“电流调节”逆时针调到接近零值;将“功能选择”开关拨至“设定电流”位置,即可调节“电流调节”,使电流达到所需要的电流值。晶间腐蚀,会破坏晶粒间的结合,大幅降低金属的机械强度。
电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。低倍加热腐蚀尺寸多样性,完全可以按照客户要求定制。嘉兴晶间腐蚀厂家批发
晶间腐蚀,不锈钢操作台,耐腐蚀,方便维护清理。嘉兴晶间腐蚀厂家批发
晶间腐蚀试验方法,各标准对试验细节均有详细规定。
试验方法 |
试验标准 |
试验周期 |
备注 |
不锈钢晶间腐蚀A法 |
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4天 |
草酸法 |
不锈钢晶间腐蚀B法 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
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不锈钢晶间腐蚀C法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
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不锈钢晶间腐蚀D法 |
4天 |
硝酸-氢氟酸 2*2h |
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不锈钢晶间腐蚀E法 |
4天 |
硫酸-硫酸铜 16h |
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镍基合金晶间腐蚀A法 |
GB/T 15260-1994 |
7天 |
硫酸-硫酸铁 120h |
镍基合金晶间腐蚀B法 |
3(5)天 |
铜-硫酸铜-硫酸 24h或72h |
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镍基合金晶间腐蚀C法 |
10-12天 |
盐酸法 168h |
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镍基合金晶间腐蚀D法 |
13-15天 |
硝酸法 5*48h |
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