湖北上海XRD衍射仪配件

超薄HfO2薄膜XRR测试引言随着晶体管节点技术的发展，薄膜厚度越来越薄。比如高-栅介电薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在该技术节点的a20范围内。超薄膜的均匀性是制备Hf基栅氧化物的主要工艺难题之一。为了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的测量技术。由于具有出色的适应能力，使用D8ADVANCE，您就可对所有类型的样品进行测量：从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。无论是新手用户还是专业用户，都可简单快捷、不出错地对配置进行更改。这都是通过布鲁克独特的DAVINCI设计实现的：配置仪器时，免工具、免准直，同时还受到自动化的实时组件识别与验证的支持。不止如此——布鲁克提供基于NIST标样刚玉（SRM1976）的准直保证。目前，在峰位、强度和分辨率方面，市面上尚无其他粉末衍射仪的精度超过D8ADVANCE。涉及高通量筛选（HTS）和大区域扫描分析时，D8 DISCOVER是较好解决方案。湖北上海XRD衍射仪配件

对分布函数分析对分布函数（PDF）分析是一种分析技术，它基于Bragg衍射以及漫散射（“总散射”），提供无序材料的结构信息。其中，您可以通过Bragg衍射峰，了解材料的平均晶体结构的信息（即长程有序），通过漫散射，表征其局部结构（即短程有序）。就分析速度、数据质量以及对非晶、弱晶型、纳米晶或纳米结构材料的分析结果而言，D8ADVANCE和TOPAS软件是目前市面上性能较好的PDF分析解决方案：相鉴定结构测定和精修纳米粒度和形状。浙江点阵参数精确测量XRD衍射仪哪里好D8 DISCOVER 特点：UMC样品台可对重达5 kg的样品进行扫描、大区域映射300mm的样品、高通量筛选支持三个孔板。

介孔分子筛SBA-15结构分析引言介孔分子筛SBA-15具有大晶胞的二维六方孔状结构，具有更大的孔径、更厚的孔壁和更高的孔容，而且具有更好的水热稳定性，有利于它在温度较高、体系中有水的反应中应用，因此在催化、分离、生物及纳米材料等领域有应用前景。SBA-15结构特稳定性和其孔径大小与性能有较大关联，而XRD是表征其结构的有效方法之一。由于SBA-15的晶胞较大，其衍射峰往往出现在非常低的角度，这导致很难从直射光和空气散射中区分其衍射信号。目前，随着衍射仪的发展，动态光路对的设计很好的解决了这类问题。实例SBA-15小角度XRD图谱，五个衍射峰分别对应(100)、(110)、(200)、(300)、(220)。根据图2示意图，计算得到平均孔距

所有维度都非常好的数据质量不论在何种应用场合，它都是您的可选的探测器：高的计数率、动态范围和能量分辨率，峰位精度布鲁克提供基于NIST标样刚玉（SRM1976c）整个角度范围内的准直保证，面向未来的多用途采用了开放式设计并具有不受约束的模块化特性的同时，将用户友好性、操作便利性以及安全操作性发挥得淋漓尽致，这就是布鲁克DAVINCI设计，布鲁克获得的TWIN-TWIN光路设计极大地简化了D8ADVANCE的操作，使之适用于多种应用和样品类型。为便于用户使用，该系统可在4种不同的光束几何之间进行自动切换。该系统无需人工干预，即可在Bragg-Brentano粉末衍射几何和不良形状的样品、涂层和薄膜的平行光束几何以及它们之间进行切换，且无需人工干预，是在环境下和非环境下对包括粉末、块状物体、纤维、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在内的所有类型的样品进行分析的理想选择。D8 DISCOVER系列是市面上准确、功能强大和灵活的X射线衍射解决方案。

材料属性D2PHASER是一款便携的台式XRD仪器，主要用于研究和质控。您可以使用TOPAS软件提供的基本参数方法研究晶体结构、研究快速可靠的SAXS测量的纳米结构或研究微观结构（微晶尺寸）。SAXS—分析SBA-15介观催化剂（PDF）Er-Melilite的晶体结构（PDF）阳极焦炭（LC值）分析（PDF）DIFFRAC.DQUANT：对残余奥氏体进行合规量化（PDF）布鲁克为矿物和采矿业提供了先进的解决方案，旨在以可靠的方式，支持地质学家和矿产勘探者随时随地开展矿床发现和分析工作。而有了UMC样品台的加持，D8 DISCOVER更是成为了电动位移和重量能力方面的同类较好。苏州HRXRD检测分析

D8D在金属样品检测中，残余奥氏体、残余应力和织构检测是其中小部分，目的在于确保产品完成复合用户需求。湖北上海XRD衍射仪配件

X射线反射率测定引言X射线反射率（XRR：X-RayReflectivity）是一种表面表征技术，是利用X射线在不同物质表面或界面的反射线之间的干涉现象分析薄膜或多层膜结构的工具。通过分析XRR图谱(图1)可以确定各层薄膜的密度、膜厚、粗糙度等结构参数。XRR的特点：1无损检测2对样品的结晶状态没有要求，不论是单晶膜、多晶膜还是非晶膜均可以进行测试3XRR适用于纳米薄膜，要求厚度小于500nm4晶面膜，表面粗糙度一般不超过5nm5多层膜之间要求有密度差湖北上海XRD衍射仪配件