湖南精密加工平面磨

    修整的方法有两种：1是采用基准平面电镀金刚石修整轮来修面，由于电镀金刚石修整轮基本不磨损，可得到较高的平面度。2是通过修整机构修面后，也可获得较好的平面度，这种修整的原理与车床原理一致，研磨盘旋转，一个可前后运动的刀在刀杆的带动对研磨进行切削获得平面。研磨机的主要类型有圆盘式研磨机、转轴式研磨机和各种研磨机。研磨机控制系统以PLC为控制，文本显示器为人机对话界面的控制方式。人机对话界面可以就设备维护、运行、故障等信息与人对话；操作界面直观方便、程序控制、操作简单。安全考虑，非正常状态的误操作无效。实时监控，故障、错误报警，维护方便研磨，是利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其他型面。加工精度可达IT5～01，表面粗糙度可达～，属于精按照研磨盘的个数，可分为：单面研磨机和双面研磨机。按照研磨盘尺寸，可分为：380研磨机，460研磨机，610研磨机，910研磨机等。

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    循环冷却水系统介绍循环冷却水系统(recirculatingcoolingwatersystem)冷却水换热并经降温，再循环使用的给水系统。以水作为冷却介质，并循环使用的一种冷却水系统。主要由冷却设备、水泵和管道组成。冷水流过需要降温的生产设备(常称换热设备，如换热器、冷凝器、反应器)后，温度上升，如果即行排放，冷水只用一次(称直流冷却水系统)。使升温冷水流过冷却设备则水温回降，可用泵送回生产设备再次使用，冷水的用量降低，常可节约95%以上。冷却水占工业用水量的70%左右，因此，循环冷却水系统起了节约大量工业用水的作用。循环冷却水系统对平面研磨机的影响循环冷却水系统能确保平面研磨机在进行研磨抛光过程中温度保持控制在低温状态，误差±1℃，解决了磨削过程中产生热量使工件变形，能使粗糙度达到±，平面研磨机适用于各种材料的高平面度、高平行度要求的单平面高精度研磨抛光。平面研磨机采用按钮控制或PLC程近控系统，速度可调，操作方便,结合电火花打磨单元及电解研磨单元,对金属工件粗硬的表面进行快速的整形和抛光，是一种自动化程度很高的电动设备，操作简洁，加工的速度很快的特点，是为获得超高平面度、超高光洁度效果加工要求而设计的。 浙江五金平面磨具五金平面精密磨加工生产销售，就选深圳铭丰庆，用户的信赖之选，有需求可以来电咨询！

    什么是精密平面研磨抛光加工？原始的定义是指在一块很平坦的定盘上（如花岗石、铸铁…等，都叫LAP），把加工物放在上面，均匀地移动，使它因摩擦而产生一个很好的平面，它就是LAPPING，只是手工随著机械加工业的神速进展，就发展出单面LAPPING机及双面精磨机，这几年又配合手机加工行业蓬勃发展，又发展出很多专业用途的磨精度机器。抛光液的性能直接影响到抛光后工件的表面质量，是平面研磨抛光加工的关键要素之一。抛光液一般包括超细的固体磨粒(如纳米A120:及Si0:磨粒等)、表面活性剂以及氧化剂和稳定剂等几部分，其中固体磨粒产生切削作用，去除发生化学变化需要切除的部位，氧化剂产生化学腐蚀溶解作用，溶解切屑。在抛光过程中，抛光液中磨粒的种类、形状、大小、浓度、化学成分、PH值、粘度、流速和流动的途径都会对去除速度产生影响。对不同材料的工件进行抛光时，所需要抛光液的成份、PH值也不尽相同同。PH值影响工件的表面质量和去除率表现在对磨料的分解与溶解度、被抛表面刻蚀及氧化膜的形成、悬浮度(胶体稳定性)等方面，因此需要严格控制抛光液的PH值。

    首先对于蓝宝石基板来说，它在成为一片合格的衬底之前大约经历了从切割、粗磨、精磨、以及抛光几道工序。以2英寸蓝宝石为例：1.切割：切割是从蓝宝石晶棒通过线切割机切割成厚度在500um左右。在这项制程中，金刚石线锯是主要的耗材，目前主要来自日本、韩国与中国台湾地区。2.粗抛：切割之后的蓝宝石表面非常粗糙，需要进行粗抛以修复较深的刮伤，改善整体的平坦度。这一步主要采用50~80um的B4C加Coolant进行研磨，研磨之后表面粗糙度Ra大约在1um左右。3.精抛：接下来是较精细的加工，因为直接关系到成品的良率与品质。目前标准化的2英寸蓝宝石基板的厚度为430um，因此精抛的总去除量约在30um左右。考虑到移除率与的表面粗糙度Ra，这一步主要以多晶钻石液配合树脂锡盘以Lapping的方式进行加工。大多数蓝宝石基板厂家为了追求稳定性，多采用日本的研磨机台以及原厂的多晶钻石液。但是随着成本压力的升高以及国内耗材水准的提升，目前国内的耗材产品已经可以替代原厂产品，并且明显降低成本。说到多晶钻石液不妨多说两句，对于多晶钻石液的微粉部分，一般要求颗粒度要集中，形貌要规整，这样可以提供持久的切削力且表面刮伤比较均匀。

     磨前先将零件加工表面和平板清洗干净，将研磨剂均匀涂于零件待修表面上，并放于研磨板上。

    超精密平而研磨是超精密加工中重要的方法之一，在制造业占有非常重要的地位且有着广阔的市场需求，光学镜而、计算机芯片、量块等都是使用超精密平而研磨加工出来的。超精密平而研磨过程中，如果研磨工艺参数配置不合理，如研磨压力选用不合适、磨盘硬度选用不合理、磨料尺寸分散性较大等，都会影响工件的加工效率及加工质量。研磨压力是影响研磨加工的效率的主要因素，同时对加工质量也有影响。其它条件一致的前提下，如果研磨压力在一定范围内增大，工件表面磨粒划痕相对深一些，表而粗糙度也会变大，但当研磨压力增加到一定程度后，表而粗糙度不再随压力增加发生变化而基木保持不变。研磨效率随着研磨压力地增大而基木成正比地提高，但是研磨压力也不可以无限制地增加，过大的压力可能引起试件的破碎以及磨粒的压碎等问题。研磨的作用是会随着研磨压力的提高而增加，在平面研磨机进行研磨时，压力增加后，磨粒的嵌进工件比较深，切屑也会增加，在研磨压力应用范围内，研磨压力主要是通过人力或者是机械方方通过重量压力所产生的。研磨压力需要作者精细调整，均匀分布在整个加工面上，力主要是作用在工件表面和磨盘之间，可以有效避免工件产生变形。 以较快地消除几何形状误差和切去较大的加工余量，通常即可完成粗磨，以密封面全部研磨出为准。湖南精密加工平面磨

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    磨料对平面抛光效果的影响平面抛光过程中磨料的作用是借助于机械力，将晶片表而经化学反应后形成的钝化膜去除，从而达到表而平整化的目的。日前常用的磨料有胶体SiO2、Al2O3及CeO2等。磨料的种类决定了磨粒的硬度、尺寸，从而影响抛光效果。抛光铝实验中，相对于SiO2、Al2O3磨料能获得较好的表而平整度，表而刮痕数量少、尺寸小，其原因是胶体SiO2磨粒尺寸小，抛光时磨料嵌入晶片表面的深度较小，并且在推荐其它参数的情况下，也能获得很高的抛光效率。磨料的浓度会影响抛光效果。抛光铝实验中，随着磨料(胶体SiO2)浓度的提高，单位而积参与磨削的磨粒数日增加，所以抛光效率提高，表而刮痕尺寸缓慢增人或基本保持不变;但磨料浓度过人时，抛光液的粘性增人，流动性降低，影响加工表而氧化层的有效形成，导致抛光效率降低。磨粒的尺寸也会对抛光效果产生影响，磨粒尺寸越小，表而损伤层厚度小。据统计，在硅片的精抛过程中，每次磨削层的厚度为磨粒尺寸的四分之一。为了有效地减小表而粗糙度和损伤层厚度，通常采用小尺寸的胶体硅(15~20nm)来代替粗抛时的胶体硅(50~70rnm);同时通过加强化学反应及提高产物的排除速度来提高抛光效率。 湖南精密加工平面磨