第十六届先进陶瓷发展论坛

时间:2024年11月02日 来源:

在IT和电子行业中,元器件散热需要用到风扇,风扇中马达若采用陶瓷轴承即可减少噪音,又可延长寿命,比金属轴承具有更大优越性。ZrO2和Si3N4陶瓷不仅耐磨性好,断裂韧性高,而且具有一定的自润滑性,因此是制造陶瓷轴承的理想候选材料。电子用精密陶瓷部件、机电工业用精密陶瓷部件包括各种氧化铝(Al2O3)体系绝缘陶瓷零部件,如集成电路封装管壳;电真空开关陶瓷管;微波炉中磁控管用绝缘陶瓷以及绝缘陶瓷灯座等。机电工业用精密陶瓷部件、透明氧化铝陶瓷产品许多透明氧化铝陶瓷产品已采用注射成型技术制备,包括牙齿矫正用透明陶瓷托槽、陶瓷金属卤化物灯泡内的透明陶瓷电弧发光管、以及集实用与美观于一体的半透明氧化铝陶瓷杯。“第十七届中國‌國際先進陶瓷展览会”将于2025年3月10-12日上海世博展览馆盛大开幕。“中國‌國際先進陶瓷展览会”汇聚国内外優秀企业和业界精英:2025年3月10日上海见。诚邀您莅临参观!第十六届先进陶瓷发展论坛

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“第十七届中國‌國際先進陶瓷展览会”将于2025年3月10-12日上海世博展览馆盛大开幕。碳化硅作为第三代半导体的代表性材料之一,展现了突出的性能优势,具有极高的产业价值,被当下业内称为“黄金投资赛道”。我国“十四五”规划已将碳化硅半导体纳入重点支持领域,是國家战略性需求的重要行业。我们通过对碳化硅产业链的基本情况及碳化硅衬底、外延、功率器件环节的价值分析,揭示碳化硅产业链的发展趋势以及面临的机遇与挑战。五展联动孕育无限发展商机IACECHINA2025将与第17届中國‌國際粉末冶金及硬质合金展览会(PMCHINA)、2025上海國際线圈、变压器、电感、电机与磁性材料展览会(MMICCHINA)、2025上海國際增材制造应用技术展览会(AMCHINA)和2025上海國際粉体加工与处理展览会(POWDEXCHINA)同期同地举办。五展联动,串联相关产业链,吸引更多的观众群体,形成既汇聚更多参展企业同台竞技,又满足观众和买家多样化需求的“一站式”商贸交流平台。本届展会(2025年)展览面积将超过50,000平方米,中外展商约900家,参展品牌1500个,国内外观众预计将达到70,000人次。诚邀您莅临参观!上海国际先进陶瓷发展论坛“中國‌國際先進陶瓷展览会”创新应用和解决方案:2025年3月10-12日上海世博展览馆。诚邀您莅临参观!

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在需要高功率的场景中,常将多颗SiC功率半导体封装到模块中,实现芯片互连和与其他电路的连接。SiC功率模块封装包括芯片、绝缘基板、散热基板等组件。按封装芯片类型,可分为混合模块和全SiC模块,前者是替换硅基IGBT中的二极管,后者全用SiC芯片,两者在效率、尺寸和成本上有差异;按拓扑方式,可分为三相模块、半桥模块等封装形式;按散热方式,可分为单面冷却和双面冷却;按封装外壳类型,可分为转模塑封结构和HPD(gao压聚乙烯塑料)框架结构。随着需求多样化,定制化模块逐渐流行。目前,SiC功率模块多沿用传统硅基IGBT封装结构,难以发挥SiC材料特性,面临可靠性和成本等挑战。“第十七届中國‌國際先進陶瓷展览会”将于2025年3月10-12日上海世博展览馆盛大开幕!展会展览面积将超过50,000平方米,中外展商约900家,参展品牌1500个,国内外观众预计将达到70,000人次。展会打通供需堵点,整合全产业链资源,集中展示涵盖原材料、设备、仪器、制品等产品、服务和整体解决方案。诚邀您莅临参观!

国内碳化硅衬底产品以4英寸和6英寸为主,少数企业实现8英寸量产,与國際厂商仍有一定差距。我国碳化硅产业起步较晚,国内厂商与国外企业在碳化硅衬底产品上存在差距。国内以4英寸和6英寸为主,而國際厂商如Wolfspeed、意法半导体在2023年已能够大批量稳定供应8英寸衬底。国内碳化硅衬底企业天岳先進2024年5月披露,公司8英寸导电型衬底产品已经实现批量交货,将推动头部客户向8英寸转型,但8英寸产品品质和良率与國際厂商还有一定差距。“第十七届中國‌國際先進陶瓷展览会”将于2025年3月10-12日上海世博展览馆盛大开幕!五展联动;第17届中國‌國際粉末冶金及硬质合金展览会(PMCHINA)、2025上海國際线圈、变压器、电感、电机与磁性材料展览会(MMICCHINA)、2025上海國際增材制造应用技术展览会(AMCHINA)和2025上海國際粉体加工与处理展览会(POWDEXCHINA)同期同地举办。五展联动,串联相关产业链,吸引更多的观众群体,形成既汇聚更多参展企业同台竞技,又满足观众和买家多样化需求的“一站式”商贸交流平台。展会展览面积将超过50,000平方米,中外展商约900家,参展品牌1500个,国内外观众预计将达到70,000人次。诚邀您莅临参观!2025年3月10-12日,让我们相聚中國‌國際先進陶瓷展览会,共同探索先進陶瓷行业的万千可能!

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注射成型过程中由于工艺参数控制不当,或者是喂料本身缺陷,以及模具设计不合理等因素,容易造成诸如欠注、断裂、孔洞、变形、毛边等各种缺陷。结合具体过程,对常见的注射缺陷进行分析,并加以控制,以提高生产率和喂料的利用率。1、欠注缺陷,指喂料在充模过程中不能充满整个模腔。一般在刚开始注射时产生,可能是由喂料温度或模具温度过低、加料量不足、喂料粘度过大等因素引起的。通过增加预塑时间升高喂料温度、升高模具温度、加大进料量、升高注射温度降低喂料粘度等措施可以消除此缺陷。2、断裂缺陷断裂。一般发生在脱模中,往往是脆断。主要是因为模具温度太低,或者是保压和冷却时间过长,使得坯体温度大幅下降,引起的收缩太大使坯体紧紧箍在下部凸模上,在模具顶出机构的强烈冲击下,很容易引起脆断。通过适当升高模温以及减少保压和冷却时间,在脱模过程中可以避免断裂。3、孔洞缺陷,孔洞,指在生坯的横截面上可以发现的孔隙。有的是一个近圆形的小孔,有的就发展为几乎贯穿生坯坯体的中心通孔,这是常见的缺陷,注射成型样品不同部位产生的气孔的原因也不一样。“第十七届中國‌國際先進陶瓷展览会”将于2025年3月10-12日上海世博展览馆盛大开幕。提高材料性能,创新技术工艺,“中國‌國際先進陶瓷展览会:2025年3月10-12日上海世博展览馆!上海国际先进陶瓷发展论坛

先進制造业新发展格局“第十七届中國‌國際先進陶瓷展览会”:2025年3月10-12日上海世博展览馆!第十六届先进陶瓷发展论坛

碳化硅衬底的电学性能决定了下游芯片功能与性能的优劣,为满足不同芯片功能需求,需制备不同电学性能的碳化硅衬底。按照电学性能的不同,碳化硅衬底可分为两类:高电阻率(电阻率≥105Ω·cm)的半绝缘型碳化硅衬底,以及低电阻率(电阻率区间为15~30mΩ·cm)的导电型碳化硅衬底。半绝缘型碳化硅衬底主要用于制造氮化镓射频器件,通过生长氮化镓外延层制得碳化硅基氮化镓外延片;导电型碳化硅衬底主要用于制造功率器件,需在导电型衬底上生长碳化硅外延层。“第十七届中國‌國際先進陶瓷展览会”将于2025年3月10-12日上海世博展览馆盛大开幕!诚邀您莅临参观!第十六届先进陶瓷发展论坛

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