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下压框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在连续运行真空的情况下，添加30mL洗涤缓冲液（MultiBlot为15毫升）。重复洗涤步骤3次以上（总共4次洗涤）。当框架完全为空时，将TURN真空关闭。10.在印迹架的表面上涂适量的二抗（对于多印迹，为2.5mL，5毫升用于迷你印迹，或10毫升用于Midi印迹）。在室温下孵育10分钟，然后关闭真空。同样，溶液将被吸收到印迹架中，并且表面可能看起来干燥。重要提示：孵育10分钟后，再抽真空。11.向下压框架并施加真空。上海MerckWB实验加速器WB实验加速器联系电话

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