半导体超精密吸附板

我们说的微孔，大部分是用肉眼是看不到的，用放大镜放大，用手机镜头放大都看不到，这是在2毫米见方上开的25个微孔，肉眼是看不到的，在显微镜下才能看到。这是在直径1厘米的钢板上开的一百多个微孔，肉眼隐约可见，对着亮光就可以清晰可见。21 世纪公司利用独有的飞秒激光技术，生产超精密零件，包括钻孔、成形、切割和抛光。 它可以加工多种材料，包括 PCD、 PCBN、陶瓷、硬质合金、不锈钢、热处理钢、钼，我们专注于生产需要高难度、高公叉和高几何公叉的产品，并以 30 年的磨削技术、成型技术、钻孔技术和激光技术为后盾，解决客户的难题，力求客户满意。有问题请联系  上海安宇泰环保科技有限公司总代理超精密加工技术能辅助的产业很广，机械、汽车、半导体，只要想提升产品的精致度，就需仰赖精密加工的辅助。半导体超精密吸附板

微泰，精湛的超精密加工技术，可达到微米级加工，充分考虑材料的特殊性加工超平整零件，平整度公差小于 3 um零件精密加工的关键在于确保高水平的精度和质量，并确保与既定尺寸的偏差小实现。 精密加工的半导体晶圆真空卡盘的平面度公差不超过 3 μm，并通过三维接触测量仪进行全数检查和系统质量的管材，为全球客户提供精密加工。 铝（AL5052、AL6061、AL7075）、不锈钢（SUS304、SUS316、SUS630）。 铜、钨、钛和蒙奈尔合金（MONEL）。 处理聚醚醚酮 (PEEK)、聚甲醛 (POM) 和聚酰亚胺 (PI) 等材料，需要精密加工。使用高难度材料，如无氧高导铜 (OFHC)制造半导体精密零件。半导体加工超精密MLCC激光超精密加工具有切割缝细小的特点。激光切割的割缝一般在0.1-0.2mm。

现有物理切削技术,接触式加工,磨损基石，需要切削油,加工后需要清洗纳秒激光加工有以下问题：细微裂纹，熔化-再凝固产生热变形，表面物性发生变化，周围会产生多个颗粒飞秒激光打磨：改善现有打磨技术的问题-热影响极小，可以局部加工-不需要切削油和化学药剂-细微裂纹极少化表面物理特性变化少，在不改变物性值的情况下，提高表面粗糙度。高功率激光打磨：测量高度→获取高度数据→转换成面数据→去除表面凸起中等功率，利用中等功率激光可以刻画低功率时具有，清洗效果；抛光效果（也有去除微孔边缘毛刺的效果）抛光后，[AOI（自动光学检查）]对孔不良进行检测（手动或自动）（光学相机扫描仪）材料的边缘测量和修正材料位置误差。加工部件激光光学系统位移传感器、光学相机、防撞传感器滑门及外盖实用程序系统控制系统该激光加工设备环保，有利于工艺自动化，本公司通过各工序的联动及生产自动化，推进智能工厂化，成为超精密激光加工系统领域全球企业，上海安宇泰环保科技有限公司

微泰利用激光制造和提供超精密产品。 凭借高效率、高质量的专有加工技术，我们专门用于加工 Φ0.2 度以下的超精密微孔，并采用了Φ0.005 mm 激光钻孔技术，使用飞秒激光器。 此外，我们还在不断地开发技术，以提供更小的微米级孔。激光加工不同于常规的 MCT 钻孔加工，在热处理后，孔的加工容易，因此即使在极强度/高硬度或热处理过的产品中，也能够获得恒定质量的孔，如 PCD、PCBN 和 Cerama。 我可以用多种材料制成，包括硬质合金、不锈钢、热处理钢和钼。营业于半导体真空卡盘、吸膜板、COF绑定TOOL，倒装芯片键合、MLCC叠层吸膜板，MLCC印刷吸膜板，吸附板。超精密加工是为了适应核能、大规模集成电路、激光和航天等技术的需要而发展起来的精度极高的一种加工技术。

微泰拥有 30 多年的技术和专业知识，生产了各种刀具和刀片。切割加工（包括 MLCC 和薄膜、新能源电池等）所需的切割加工需要超精密的切割加工，需要超精密的切割加工、切割边缘的角度管理以及良好的材料管理，以防止被切割产品造成损坏。 刀具通常有刀片、刀具、轮刀等多种名称，而刀刃的管理是刀具的关键技术。 为此，wei't提供了一系列值得信赖、可靠的高精度、高质量和长寿命刀具。用于 MLCC 生产流程的精密刀片，立式刀片切割刀片（双级刀片）。刀轮：原材料：碳化钨。应用：用于MLCC制造时切割陶瓷和电极片。·同心度（通常小于 10 微米）  小于 10 微米 · 刀锋直线度小于 3 微米， 小于 3 微米的切割边缘上的直度和平行性。刀片三星电子用于手机镜头浇口切割。由于精度高的缘故，超精密加工常应用在光学元件。也会应用在机械工业。半导体超精密加工

激光超精密加工采用电脑编程，可以把不同形状的产品进行材料的套裁，提高材料的利用率，降低企业材料成本。半导体超精密吸附板

微泰真空卡盘精密的半导体晶圆真空吸盘是半导体制造设备的关键部件，可确保晶圆表面的平坦度和平行度，从而在半导体制造过程中安全地固定晶圆，使各种制造过程顺利进行。微泰使无氧铜、铝、SUS 材料的半导体晶圆真空吸盘的平坦度保持在 3 微米以下；支持 6 英寸、 8 英寸和 12 英寸尺寸的晶圆加工；支持 2 层和 3 层的高级加工技术。 提供 4 层连接。尺寸： 6 英寸， 8 英寸.12 英寸。材料: AL6061, AL7075, SUS304, SUS316OFHC(Oxygen free High Conductivity Copper) 平面度公差：小于 3 um 连接: 2floor, 3floor, 4floor 表面处理: Anodizing, Electroless Nickel Plating,Gold Plating, Mirror Polishing。无氧铜 (OFHC) 半导体晶圆真空卡盘，无氧铜 (OFHC) 材料可延长晶圆卡盘的使用寿命，并可MAX限度地减少杂质进入半导体材料，从而防止潜在污染，而且易于加工和成型，可精确匹配卡盘设计。 可加工 。 然而，这种材料的加工要求极高，需要特别小心和精确才能获得光滑的表面光洁度，例如翘曲或毛刺、易变形和加工过程中的硬化。半导体超精密吸附板