光栅足压设备

行走过程中，从一侧足跟着地到该侧足跟再次着地所经历的时间称为一个步态周期。在一个步态周期中，每侧下肢都要经历一个离地腾空并向前迈步的摆动相（迈步相）和一个与地面接触并负重的站立相（支撑相）。摆动相是指从足尖离地到足跟着地，足部离开支撑面的时间，约占步态周期的40％；站立相是指从足跟着地到足尖离地，即足部支撑面与地板接触的时间，约占步态周期的60％。其中，重心从一侧下肢向另一侧下肢转移，双侧下肢同时与地面接触的时间称之为双支撑相，一个正常步态周期中会出现两次双支撑相，各占步态周期的10%。使用足底压力步态分析系统有利于提高医生诊疗水平。光栅足压设备

研究一种基于助力机器人系统的人机交互控制应用的步态识别方法搭建一套应用于助力机器人的人体运动识别系统。基于足底压力人体运动识别检测机理研究；足底压力采集硬件平台；搭建基于足底压力参数的特征提取方法研究；人体运动识别算法研究。可穿戴式采集装置系统设计采集足底多路压力信号；足底关键位置粘贴传感器使用无线传输数据；消除接线对运动范围的限制系统操作简单；被试者无需进行其他操作。通过分析足底压力信息中的潜在规律，提取步态特征参数。运用构造分类器， 建立特征参数与运动行为之间的关系。进口足压检测足底压力步态分析系统可同动作捕捉、姿态评估做不同组合，为三维步态，姿态，平衡等数据的综合采集展示。

目测步态分析法是指不借用任何仪器，分析者通过直接注意某一关节或身体的某一节段来达到步态分析的目的的方法，多数是通过检查表或简要描述的方式完成，检查者需要记录步态周期中存在的问题及其原因。1．分析方法为了更好地识别步态是否异常及对异常原因进行分析，就必须先熟悉在一个步态周期内各个不同阶段，不同时期髋、膝、踝、足关节的角度，参与的肌肉活动等情况，以下分别从矢状面、额状面、水平面进行分析。（1）矢状面分析维持正常步态的条件是：髋关节屈曲至少要有30度，后伸达10度，膝关节能充分伸展，并能屈曲达60度，踝关节跖屈约20度，背伸至少有15度，为了维持这些关节活动范围，在步态周期不同阶段由不同的肌肉参与活动，若肌肉无力，将会出现不同的异常步态及相应代偿情况。踝足、膝和髋关节的矢状面分析结果分别见表4~6。

1步长(steplength)，即一足着地至对侧足着地的平均距离，国内亦称之为步幅:2步长时间(steptime,即一足着地至对侧足着地的平均时间:3步幅(stridelength)即一足着地至同一足再次着地的距离，也有人称之为跨步长;4平均步幅时间(stridetime，相当于支撑相与摆动相之和:5步频cadence，指每分钟平均步数(步数/min)，由于步长时间两足不同，所以一般取其均值。6步速(velocitd，指步行的平均速度(m/S):7步宽(walkingbase,也称之为支撑基础(supportingbase,指两脚跟中心点或重力点之间的水平距离，也有采用两足内侧缘或外侧缘之间的短水平距离。左、右足分别计算:8足偏角(toeoutangle,指足中心线与同侧步行直线之间的夹角。左、右足分别计算我公司面向高校、科研院所、临床研究机构等单位可提供专业的产品定制的解决方案。

足印分析法先准备所用材料包括绘画颜料，1100cm ×45cm硬纸或地板胶、秒表、剪刀、直尺、量角器；测量参数有速度、步频、步角、步宽、跨步长和步长。具体方法如下：（1）测试准备：①准备好供步态分析用的步道，在距离两端各2.5m划一横线，中间6m作为正式步态分析用。②受试者赤脚踏上颜料或石灰粉，以便有颜料粘上足底。③正式测试之前，在步道旁试走2～3次。④正式测试时，嘱病人两眼平视前方，以自然行走方式走过准备好的步道。⑤当受试者走过开始端横线处按动秒表，直到走过终端横线外，停止秒表，记录走过中间6m所需要的时间，中间6m两侧至少应有连续6个步印供测量用。足底压力步态分析系统作为生物力学检测评估的设备。测试足压仪

足底压力步态分析系统通过动静态分析足压,准确评估扁平足,高足弓等带来的影响。光栅足压设备

针对部分足踝疾病的患者，为了促进患者尽快恢复，需要对其进行足底压力测试操作，而随着科技的不断发展，智能化应用的不断普及，将智能化应用到测试鞋垫上来对患者进行足底压力测试能够给医护人员和患者均带来便利，但是常规的智能足底压力测试鞋垫在使用时，其上的压力传感器均安装在鞋垫的表面，影响患者脚掌的舒适度，同时也不利于对鞋垫的表面进行清理。智能足底压力测试鞋垫，包括鞋垫主体，所述鞋垫主体的表面设有多个正对脚底受力部位的受力区，所述受力区的表面设有受压凸起，所述受压凸起与所述鞋垫主体为一体成型结构，所述鞋垫主体的内部正对受力区的位置设有环形槽，所述环形槽内设有柔性薄膜压力传感器，所述柔性薄膜压力传感器上还设有外侧保护装置，所述外侧保护装置包括设置在所述环形槽内的保护套膜，所述保护套膜的内部设有存放腔室，所述柔性薄膜压力传感器位于所述存放腔室内。光栅足压设备