芜湖工业烤箱

时间:2023年04月23日 来源:

洁净烘箱,本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。箱体结构:1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。选用定制工业烤箱有哪些好处呢?合肥真萍科技为您介绍。芜湖工业烤箱

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温湿度振动三综合试验箱简介:广泛应用在对电工电子、家用电器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、电子、通讯、及其它相关产品零部件及材料进行高低温、恒定、交变湿热及振动冲击综合试验,并与单一因素作用相比更能真实地反映电工电子产品在运输和实际使用过程中对温湿度及振动复合环境变化的适应性,暴露产品的缺点,是新产品研制、样机试验、产品合格鉴定试验全过程必不可少的重要试验手段。三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验,具有极宽大的温湿度控制范围,可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式,可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上,供用户对整机(或部件)、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验。特点:1.试验室与制冷系统整体组合式结构,紧凑美观,便于操作制冷压缩机组及主要配件均为口。2.进口LCD彩色液晶触摸屏,温、湿度程序自动控制,配有RS232通讯接口3.可根据用户要求选配不同制造商不同型号的振动台,振动台接口接口可有多种形式选用,保证冷、热、汽密封的同时,振动台具有良好的力学传递性。4.可根据用户要求设计、制造不同规格淮北哪里有工业烤箱工业烤箱的基本结构级应用!

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下面为大家简单介绍一下真萍科技的产品之一——洁净烘箱。本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:可靠的测控系统1温度控制装置:进口温控器,内置PID自动整定,斜率设定功能2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出,温度采集探头为特制铠装K型热电偶3温度监控装置:采用六通道巡回检测有纸记录仪,可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。完善的控制系统,及安全防护措施1操作控制系统,采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制,更快速,更稳定。2防护措施:紧急停止,超温保护,断线报警,相序保护,过载保护,短路保护,漏电保护,及电磁门禁保护等

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。氮气监控系统:1.1、2.3”LED大屏幕数字显示湿度/温度。1.2、温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。1.3、温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。1.4、湿度控制:2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。2.4.2湿度在1%-60%RH可调整。1.5、温湿度记录功能:2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240分钟可自行设定。2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。2.5.3品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。1.6、湿度警报系统:1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能。1.6.2可另外选配积层式警示灯。1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。

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HMDS真空烤箱整机尺寸、真空腔体尺寸:1.内胆尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.载物托架:2块3.室温+10℃-250℃控温范围:温度分辨率:0.1℃温度波动度:±0.5℃4.真空泵:油泵或无油真空泵。真空度:133pa,5.加热方式:腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板(防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态)6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片;6寸晶圆片;8寸晶圆片等。7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间(正常工艺在50分钟-120分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为常规降温)。合肥真萍工业烤箱的运用领域!大工业烤箱批发

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下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉一.产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。二、设计特点1、后门设计热风电机2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的三、技术指标1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;4、加热元件:石墨加热棒;5、冷却方式:气冷+循环风冷降温;6、控温稳定度:2℃,具有PID参数自整定功能;7、炉膛温度均匀度:5℃(恒温1500℃);8、气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;9、极限真空:10-3torr级;10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr11、升温功率:170kW;12、升温速率:15℃/min(空载);13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高)芜湖工业烤箱

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