海南CPS高精度纳米粒度分析仪哪家好

对于粒径分布范围很宽的样品，通过可选的速度调节功能圆盘，只需常规圆盘分析时间的1/20。经过CPS纳米粒度仪对裂解后炭黑进行粒径测试后的结果所示：与扫描电镜所显示的结果基本一致，裂解后的炭黑较小粒径为3um，较大可至50多微米，并且出现很多峰值，证明样液中具有不同粒径且含量不同的的炭黑。峰值粒径处于30um左右。真实反映了不同炭黑粒径的分布状态。随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。作为芯片制造不可或缺的一环，CMP工艺在设备和材料领域历来是受欢迎的。诚信是企业生存和发展的根本。海南CPS高精度纳米粒度分析仪哪家好

CPS分析仪基本原理：CPS纳米粒度分析仪依据Stokes定律，V=D²(ρP-ρF)G/18η，即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量。待测样品从圆盘中心进入高速旋转的圆盘，在离心力的作用下发生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距离圆盘的边缘固定位置设有激光检测器，颗粒按尺寸大小依次通过探测器，仪器记录颗粒通过探测器的时间，由于所有颗粒走过的路程都一样，因此，颗粒运动所需的时间与颗粒本身尺寸的平方成反比，激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度。山西激光粒度粒形分析仪报价驰光机电在行业的影响力逐年提升。

测量低密度颗粒：示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒，CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体)，现在可以方便地使用CPS进行分析，而且精度很高。速度调节：CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速，而不会对沉降液体产生扰动，转速可以在20倍范围内升高或者降低，这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。

提供数量、面积和体积等指标的平率分布图和表、累计分布图和表格粒度和粒型参数分布的结果；能够自动产生实验结果world报告。激光和视频分析产生的信息，很容易通过直观的数据报表软件得到。测量结果可以各种表格和图显示出来，这些表格和图可以由用户选择，以便正确显示需要的信息。通过数据挖掘技术，很容易实现数据比较和分析，允许对覆盖图和比较表进行编辑。轻点一下鼠标，就能生成Word格式的样品分析报告，该文件包括样品制备、粒径和粒形结果，还带有图像或视频信息。驰光机电不断提高产品的质量。

UHR型可达1%，良好性能：CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果，即使对于使用其它分析方法非常难分析的样品，CPS依然能够提供满意的分析结果。高分辨率：CPS具有强大的分辨率，粒径差别在2%以内的窄峰可以被完全分辨出来。所示样品包含五种不同的聚苯乙烯标定颗粒，在图中可以清楚地看到它们完全被分辨出来呈现为五个单独的粒度峰。高准确度：可追溯&校准到NIST标准颗粒的可靠、重复性结果。高精度：与SEM/显微镜分析结果的对比。公司实力雄厚，产品质量可靠。吉林激光粒度粒形分析仪报价

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而CMP工艺离不开研磨料的发展，那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面，将抛光垫放置在研磨盘上，抛光时，旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上，由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动，然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下，均匀分布其上，在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。海南CPS高精度纳米粒度分析仪哪家好