海南高灵敏度纳米粒度分析仪

被测物料不溶于水，就用自来水作为试剂，以节约成本；被测物料在水中悬浮，可用乙醇将粉末湿润后放入样品槽；超声分散的时间为15-60秒，测试结果一直稳定，不可再变化，说明样粉已被充分分散。有些试样由于强度低，超声分散太长，有可能产生粉碎，使测试结果越来越细。有些试样不易分散，也可加长分散时间。激光粒度仪的相关知识点就先说到这里了，这款产品还有很多的常识等着各位来发现与了解，如果您还想要了解更多内容，还请先关注好我们，华致林小编会不定期在此跟大家分享更多的信息。驰光机电通过专业的知识和可靠技术为客户提供服务。海南高灵敏度纳米粒度分析仪

技术优势：CPS系统优良性能的基础是它先进的示差沉降技术。高转速：CPS可以支持的较高转速为24,000转/分。对于超细颗粒，其分析速度比其它产品快倍。使用速度调节技术，可以对粒度分布范围较广的样品进行分析。对于在其它分析仪上很多非常耗时(数小时或更长)的样品，CPS可以快速得到结果。高精度标定：CPS系统使用已知的标定颗粒进行标定，与美国国家标准和技术研究院(NIST)相兼容的标准保证了分析结果的一致性和精确度。使用内标法，也即把已知标定颗粒与待分析样品相混合，所得的峰值结果可以达到±0.25%的精度。海南激光粒度分析仪以客户至上为理念，为客户提供咨询服务。

研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程：化学过程：研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应，生成比较容易去除的物质；物理过程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦，去除化学反应生成的物质。

CPS纳米粒度仪测量金刚石的粒径：金刚石微粉是指颗粒度细于36/54微米的金刚石颗粒，金刚石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于机械、航天、光学仪器、玻璃、陶瓷、电子、石油、地质、工业部门，用于制作PCD(聚晶金刚石)、 PDC(金刚石复合片)、陶瓷结合剂、金属结合剂、电镀产品；制作拉丝模、电镀磨具，陶瓷、金属结合剂磨具等；制造金刚石树脂结合剂弹性磨块等；用于精密机械、光学玻璃、精细陶瓷、宝石及半导体等产品的研磨抛光。CPS纳米粒度分析仪测量金刚石微粉的粒径。驰光机电科技有限公司重信誉、守合同，严把产品质量关，热诚欢迎用户前来咨询考察，洽谈业务！

一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头：CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。驰光机电科技有限公司团队从用户需求出发。重庆激光粒度分析仪价格

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CPS纳米粒度分析仪测量参数：粒径、粒形和浓度；粒径范围：0.1-3600μm；浓度范围：高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒)；供样方式：液体、干粉、表面；系统规格/重量电源：665L×280W×183H(mm)；14Kg；100-130V，205-240V，50/60Hz，100VA；2mW He-Ne，632.8nm，硅PIN二极管检测器；全量程的0.3%，小可达0.2μm；同步频闪光源，亮度和持续时间可调；频闪率；可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素；PAL768×572像素。Windows XP操作系统，检测报告自动生成，符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准；符合多项ISO方法标准；测量池模块：液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。海南高灵敏度纳米粒度分析仪