中国台湾纳米压印可以免税吗

EVG ® 510 HE是EVG500系列的热压印系统

EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高

效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有：EVG®510HE，EVG®520HE。 HERCULES®NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300 mm的大批量生产。中国台湾纳米压印可以免税吗

EVG ® 520 HE热压印系统

特色：经通用生产验证的热压印系统，可满足比较高要求

EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板，并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能，并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。

如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 中国台湾纳米压印可以免税吗EVG ® 610也可以设计成紫外线纳米压印光刻系统。

EVG ® 7200 LA特征：

专有SmartNIL ®技术，提供了****的印迹形大面积

经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性

多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本

强大且精确可控的处理

与所有市售的压印材料兼容

EVG ® 7200 LA技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（比较大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 µm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm²）

对准：可选的光学对准：≤±15 µm

自动分离：支持的

迷你环境和气候控制：可选的

工作印章制作：支持的

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。

EVG的HERCULES ® NIL产品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系统达200毫米

对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ®印迹技术

HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES

NIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”，将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。 HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速高功率曝光和平滑压模分离。

SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板

如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG ® 770是分步重复纳米压印光刻系统，使用分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作。中国台湾纳米压印可以免税吗

EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。中国台湾纳米压印可以免税吗

IQ Aligner UV-NIL 自动化紫外线纳米压印光刻系统

应用：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释放机制。

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