湖北电工积水胶带批发

时间:2024年05月15日 来源:

用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热,高粘附力,易剥离的双面UV胶带,用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時,保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶;透过UV照射产生气体,剥離時可减少對设备的损伤。积水(Sekisui)5230PSB提供优异的抗斥性和强大的粘附力,以粘合到物体的曲线表面。湖北电工积水胶带批发

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去除了阻焊剂的起伏进而形成平坦的基板表面。未贴薄膜遮蔽胶带的案例有贴薄膜遮蔽胶带的案例去除异物如下图所示,可以通过在两侧应用薄膜胶带来防止阻焊剂的氧化。平面图断面图应用场景工序图(FC-BGA基板制造)1.基板2.感光树脂涂层3.胶带压合4.曝光5.显影,后处理产品Line up项目单元#3250A#3750厚度基材μm1212粘着剂μm28分隔器μm3030SP附着力N/25mm0.140.50分隔器剥离力N/25mm0.090.20全光线透过率%91.991.2Haze%4.23.7补充结合附着力和易剥离性,无残胶基板表面的ATR光谱分析比较未贴胶带的基板表面和有贴胶带的剥离后基板表面的光谱, 并无差异。基材表面抽出物的红外光谱分析比较未贴胶带的基板表面和有贴胶带的基材表面的溶剂提取物, 并无差异。薄膜遮蔽胶带主要用于FC-BGA基板,在多层基板制造工序中用作保护阻焊剂的胶带。防止阻焊剂的氧抑制。昭和电工阻焊剂/SR7300/SR7400A推荐产品不含矽,可防止油墨文字相互影响结合附着力和易剥离性,无残胶基材平坦性良好图片:产品配置图基板平坦度通过使用薄膜胶带.湖北汽车积水胶带厂家sekisui积水胶带,5215PSB型号齐全!

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1.概要用于连接IC芯片和天线的RFID嵌体的异方性导电胶(ACP)。它可以通过各种印刷方法使用,例如喷射点胶。2.产品特点可在低温和短时间内安装Potlife长优越的广频特性3.使用工艺透过RolltoRoll应用或Bonding可硬化及连接物性一览资料下载(简体字)物性一覽資料下載(繁體字)Home按设备种类搜索LCD・触屏OLED・mini/μLED电子零件基板・半导体相机模组外装零件LED功率器件电池按应用场景搜索手机・平板TV・PC汽车电子穿戴式AR/MR/VR一般家电无人机・产业机器人通信基础设施数码相机・录像机按产品类别搜索胶带膜粘合剂微粒子粉体・水溶液泡沫体凝胶片喷胶成型品印刷线路板按功能搜索接着・粘着防水防尘精密控制间隔保护热管理导电低介电常数和低传输损耗反射・遮光防震减震电磁波控制其他

积水化学电子领域综合网站TOPICS积水化学首页LanguageEnglish中文日本語한국어产品咨询按设备种类搜索按应用场景搜索按产品类别搜索按功能搜索产品一览PCB制造程中的光罩保护胶带Tackwell首页胶带PCB制造程中的光罩保护胶带Tackwell高耐久类型(离型)Tackwell157SD,SD-S防止由于溶剂引起的离型层脱落,即使是高粘连性的液状湿膜,可容易从底片剥离。有些无卤型和封装基板用液状绿漆使用特殊溶剂,该溶液会使离型层脱落,因此经过几次曝光后就必须更换胶带。TACKWELL#157SD可防止此类溶剂引起的离型层脱落,并且通过大幅提高TACKWELL的耐久性,在使用液状绿漆时保护膜的更换次数可减少到小限度。而且,由于具有杰出的光学特性,也适用于BGA等高密度封装基板。离型层脱落测试积水测试方法按照实际的基板曝光方式,多次曝光,进行测试。sekisui积水胶带,835型号齐全!

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特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降,可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液,PH9)后处理(强酸,强碱)镀金属处理(Ni,Au等)特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/25mm15.514.110.5UV照射后N/25mm000粘合力:180度剥离UV照射:1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热,高附着力,易剥离的UV胶带,用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热,高粘附力,易剥离的双面UV胶带,用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時,保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶;透过UV照射产生气体,剥離時可减少對设备的损伤。sekisui积水600V胶带,型号齐全!北京Sekisui积水胶带联系方式

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