广州电工积水胶带联系人

时间:2024年10月07日 来源:

    积水化学电子领域综合网站TOPICS积水化学首页LanguageEnglish中文日本語한국어产品咨询按设备种类搜索按应用场景搜索按产品类别搜索按功能搜索产品一览光学薄膜用保护膜6700,/6800,/6900系列首页胶带光学薄膜用保护膜6700,/6800,/6900系列扩散板,增光片等各种LCD用光学薄膜的表面保护膜。生产,加工,运输等所有环节中保护光学薄膜。特点采用残胶等被粘物污染少的双层共挤压生产方式。通过基材和粘合剂的不同变化来对应凹凸面,磨沙面等多种多样的光学薄膜的表面形状。在无尘室生产。一般性保护膜的制作过程本公司双层共挤压过程1由于基材与胶层的粘接牢固,材料上几乎没有残胶。2它是一种无溶剂的制造方法,因此是一种对环境友善的生产方法。用途增光板等光学薄膜的表面保护。特性强粘着类型(PP系薄膜)一般物性:6700系列品名6748C6754A672NZ675KA色透明透明透明透明标准厚度μm杨氏模量(MD)Mpa0抗拉强度(MD)N/cm20202320拉伸伸长率(MD)%0粘着力(23℃。 积水胶带的强度高粘附力确保了物品在运输过程中的安全。广州电工积水胶带联系人

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    c25mm×25mm被着体①玻璃(PET侧玻璃)被着体②铝片贴合压力5kg×10sec固化24h*23℃50%RH倾斜45°负重1kg测定温度60℃90%RH3测评结果拥有很好的倾斜耐负载特性2.剪切耐负载特性1模拟使用状况模拟将LCD的负载施加到胶带上的静态剪切力2测评方法被着体玻璃/不锈钢片胶带贴合尺寸25mm×25mm加圧条件2kg滚筒1往复放置条件23℃×24hr试验条件60℃90%RH3测评结果拥有很好的倾斜耐负载特性3.可返工性1模拟使用状况模拟拆卸设备,撕裂胶带时对产生的异物程度进行测评2测评方法3测评结果积水产品的异物比其他公司少,PE产品不会产生异物。产品表系列泡棉种类特征胶带厚度(um)-*UMPU高柔软ーXUM066D-3LUM09DXUM086DXUM12DXUM166D*LSPE强度XLS05DXLS066DLLS09DXLS09DLLS12DXLS12DXLS166D※可根据要求开发其他厚度粘合剂的区别L胶:一种既易于贴合又有高度信赖性的高级粘合剂。X胶:强化PC粘合力,并兼具耐热性和强粘合性的粘合剂。上述数据是测定值。 上海防滑积水胶带联系人sekisui积水胶带,5260NSB型号齐全!

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积水化学电子领域综合网站TOPICS积水化学首页LanguageEnglish中文日本語한국어产品咨询按设备种类搜索按应用场景搜索按产品类别搜索按功能搜索产品一览按应用场景搜索汽车电子微粒子产品【Micropearl系列】包含精细微粒子的控制粘合剂胶水产品【Photolec系列】防水・衝撃吸収用途機能泡棉胶带【#5200系列】热压保护用離型薄膜【低脱气离型膜】散热相关系列产品防水,防震,减震薄泡沫【XLIM】压缩型导电连接器【点阵连接器】聚乙烯缩醛树脂【S-LEC系列】载具领域综合网站DEVICELCD・触屏OLED・mini/μLED电子零件基板・半导体功率器件首页按应用场景搜索汽车电子产品分类产品名特征微粒子均一树脂微粒子【MicropearlSP/GS】粒径分布均匀,变异系数(Cv)≤7%,可均匀控制间隙。在2um-600um的范围里具有丰富的粒径选择。

无芯电机线圈用成壁材料3D实装材料(成壁材料)用于线圈绝缘膜时的结构特征提高线圈功率的效率通过将铜(Cu)绝缘膜变薄使线圈高密度话,从而实现提高线圈功率的效率。降低生产成本因为不需要做曝光显影处理,因此可以简化工艺,达到减少使用材料来实现降低生产成本的目的。也可以应用于无线供电系统的线圈。粘合剂材料摄像头用玻璃胶使用3D实装材料时的结构特征摄像头模组薄型化,降低成本实现了粘合剂的精细喷涂,因此不再需要玻璃固定用外壳,从而使模块更薄,达到降低成本的目的。MEMS用气腔形成剂使用3D实装材料(粘合剂)时的结构特征封装变薄由于不再需要传统结构中的用于形成气腔的薄膜,因此可以将封装做得更薄。简化工艺可以通过在组装过程中形成气腔,从而达到简化工艺的目的。DIC 8840ER可粘贴各种金属和塑胶材料,特别适合难粘贴的材料橡胶类,PE.PP部件材料粘贴固定。

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UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MP电镀工程中的背面保护用的胶带,UV照射后产生GAS,可以从接着体上剥离开来。特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降,可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液,PH9)后处理(强酸,强碱)镀金属处理(Ni,Au等)特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/25mm15.514.110.5UV照射后N/25mm000粘合力:180度剥离UV照射:1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热,高附着力,易剥离的UV胶带,用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热,高粘附力,易剥离的双面UV胶带,用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時,保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶;透过UV照射产生气体,剥離時可减少對设备的损伤。由于其良好的耐候性,积水胶带在恶劣环境下依然能保持出色的粘接效果。福建5600积水胶带商家

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