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三极管饱和区的特点是,三级管的电流与IB和VCE有关,但是与VCE相关程度更大,因为可以看到当VCE固定时,不同的IB变化引起的IC变化不大;但是反过来,IB固定,VCE变化一点点就会引起IC剧烈变化,换句话说三极管已经饱和了,已经不受控于IB而受控于VCE了。饱和的意思就是满了,我们可以用向水杯子倒水的模型来理解这个过程,IB就是倒水的水流,IC就是水面的高度,VCE就是指水面的高度。饱和就是指水满了,饱和时状态所示,此时水面高度IC已经满了(已经饱和)不受控于IB了,而受控于水杯的高度VCE,如果想要进一步增加IC,就需要增加水杯高度VCE,这样理解饱和这个概念就更形象易懂了。三极管按结构工艺分:合金管、平面管。深圳高压三极管哪里买
当加在三极管发射结的电压大于PN结的导通电压,并且当基极的电流增大到一定程度时,集电极电流不再随着基极电流的增大而增大,而是处于某一定值附近不再怎么变化,此时三极管失去电流放大作用,集电极和发射极之间的电压很小,集电极和发射极之间相当于开关的导通状态,即为三极管的导通状态。开关三极管处于饱和导通状态的特征是发射结,集电结均处于正向偏置。而处于放大状态的三极管的特征是发射结处于正向偏置,集电结处于反向偏置。这也是可以使用电压表测试发射结,集电结的电压值判定三极管工作状况的原理。开关三极管正是基于三极管的开关特性来工作的。温州合金三极管型号NPN型三极管,适合射极接GND集电极接负载到VCC的情况。
双极型三极管的电流传输关系:发射结加正偏时,从发射区将有大量的电子向基区扩散,形成的电流为IEN。与PN结中的情况相同。从基区向发射区也有空穴的扩散运动,但其数量小,形成的电流为IEP。这是因为发射区的掺杂浓度远大于基区的掺杂浓度。进入基区的电子流因基区的空穴浓度低,被复合的机会较少。又因基区很薄,在集电结反偏电压的作用下,电子在基区停留的时间很短,很快就运动到了集电结的边上,进入集电结的结电场区域,被集电极所收集,形成集电极电流ICN。在基区被复合的电子形成的电流是 IBN。
三极管因为受到电阻Rc的限制(Rc是固定值,那么大电流为U/Rc,其中U为电源电压),集电极电流是不能无限增加下去的。当基极电流的增大,不能使集电极电流继续增大时,三极管就进入了饱和状态。一般判断三极管是否饱和的准则是:Ib*β〉Ic。进入饱和状态之后,三极管的集电极跟发射极之间的电压将很小,可以理解为一个开关闭合了。这样我们就可以拿三极管来当作开关使用:当基极电流为0时,三极管集电极电流为0(这叫做三极管截止),相当于开关断开;当基极电流很大,以至于三极管饱和时,相当于开关闭合。如果三极管主要工作在截止和饱和状态,那么这样的三极管我们一般把它叫做开关管。晶体三极管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN结。
双极管共发射极接法的电压-电流关系输入特性曲线简单地看,输入特性曲线类似于发射结的伏安特性曲线,现讨论iB和vBE之间的函数关系。因为有集电结电压的影响,它与一个单独的PN结的伏安特性曲线不同。 为了排除vCE的影响,在讨论输入特性曲线时,应使vCE=const(常数)。vCE的影响,可以用三极管的内部的反馈作用解释,即vCE对iB的影响。共发射极接法的输入特性曲线见。其中vCE=0V的那一条相当于发射结的正向特性曲线。当vCE≥1V时, vCB= vCE - vBE>0,集电结已进入反偏状态,开始收集电子,且基区复合减少, IC / IB增大,特性曲线将向右稍微移动一些。但vCE再增加时,曲线右移很不明显。曲线的右移是三极管内部反馈所致,右移不明显说明内部反馈很小。三极管是一种结型电阻器件,它的三个引脚都有明显的电阻数据。无锡晶体三极管特点
晶体三极管,是半导体基本元器件之一,也是电子电路的元件。深圳高压三极管哪里买
晶体三极管的特性曲线:晶体三极管的输入特性曲线。当UCE=0时,相当于集电极与发射极短路,即发射结与集电结并联。因此,输入特性曲线与PN结的伏安特性类似,呈指数关系。当UCE增大时,曲线将右移。对于小功率晶体管,UCE大于1V的一条输入特性曲线可以近似UCE大于1V的所有输入特性曲线。晶体三极管的输出特性曲线5所示。对于每一个确定的IB,都有一条曲线,所以输出特性的一族曲线。截止区:发射结电压小于开启电压,且集电结反向偏置。放大区:发射结正向偏置且集电结反向偏置。饱和区:发射结与集电结均处于正向偏置。深圳高压三极管哪里买
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