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半导体设备位于整个半导体产业链的上游，在新建晶圆厂中半导体设备支出的占比普遍达到80%。一条晶圆制造新建产线的资本支出占比如下：厂房20%、晶圆制造设备65%、组装封装设备5%，测试设备7%，其他3%。其中晶圆制造设备在半导体设备中占比比较大，进一步细分晶圆制造设备类型，光刻机占比30%，刻蚀20%，PVD15%，CVD10%，量测10%，离子注入5%，抛光5%，扩散5%。17年全球半导体设备市场总量约为566亿美元，同比+37%，2018年预计在600亿美元规模。中国是全球半导体设备的第三大市场，17年中国半导体设备，增速27%。1956年制定的《1956-1967科学技术发展远景规划》中，已将半导体技术列为四大科研重点之一，明确提出“在12年内可以制备和改进各种半导体器材、器件”的目标。同期教育部集中各方资源在北京大学设立半导体专业，培养了包括王阳元院士、许居衍院士等批半导体人才。半导体产业链复杂、技术难度高、需要资金巨大，且当时国内外特定的社会环境，中国在资金、人才及体制等各方面困难较多，导致中国半导体的发展举步维艰。(图表1、2为半导体产业链图)直到70年代，中国半导体产业的小规模生产才正式启动。原电子工业部部长在其著作《芯路历程》中回忆这一阶段历史。进口半导体设备 上海报关公司 天津清关公司 宁波服务代理。宁波提供半导体设备进口报关哪家好

光刻机竞争格局步进扫描投影光刻机的主要生产厂商包括ASML(荷兰)、尼康(日本)、佳能(日本)和SMEE(中国)。ASML于2001年推出了TWINSCAN系列步进扫描光刻机，采用双工件台系统架构，可以有效提高设备产出率，已成为应用为的光刻机。ASML在光刻机领域一骑绝尘，一家独占全球70%以上的市场份额。国内厂商上海微电子(SMEE)研制的90nm步进扫描投影光刻机已完成整机集成测试，并在客户生产线上进行了工艺试验。、晶圆制造设备——刻蚀机、刻蚀原理及分类刻蚀是使用化学或者物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。通常的晶圆加工流程中，刻蚀工艺位于光刻工艺之后，有图形的光刻胶层在刻蚀中不会受到腐蚀源的侵蚀，从而完成图形转移的工艺步骤。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀两种。早期普遍采用的是湿法刻蚀，但由于其在线宽控制及刻蚀方向性等多方面的局限，3μm之后的工艺大多采用干法刻蚀，湿法刻蚀用于某些特殊材料层的去除和残留物的清洗。干法刻蚀也称等离子刻蚀。干法刻蚀是指使用气态的化学刻蚀剂(Etchant)与圆片上的材料发生反应，以刻蚀掉需去除的部分材料并形成可挥发性的反应生成物，然后将其抽离反应腔的过程。连云港靠谱的半导体设备进口报关服务半导体制造设备进口报关代理公司，硅棒研磨机进口报关代理，晶圆切片机进口代理服务。

EUV的导入取决于EUV电源、光阻和掩膜等基础设施的完备情况。尽管面临挑战，三星希望在2018年将7nm逻辑节点导入EUV。相比之下，其他芯片制造商将采取更保守的路线，在10nm/7nm技术节点使用传统的193nm浸没和多次成型。？？？D2S公司的Fujimura说：“对于EUV来说，不管是2018年下半年开始投产，还是到了2019年，很明显半导体行业已经准备好在生产中使用EUV了。“EUV初将导入在已经运用了193nm多阵列生产的地方。这将使生态系统更顺利地过渡，而不是一下子要求所有事情突然转变。“短期内，芯片制造商可能会在一个甚至几个层面上导入EUV，但实际的大批量生产（HVM）仍然需要一到两年的时间。KLA-Tencor公司的Donzella说：“EUV光刻技术及其生态系统将在2018年至2019年期间继续发展，预计量产不会比2020年更早。”然而，EUV不会主宰整个光刻领域的前景。导入时，EUV将主要应用于逻辑厂商生产中的切割和过孔。这大约占整体光刻市场的20％，其余的是多重模式。与此同时，对于设备厂商来说，近几代的代工/逻辑市场一直比较低迷。在每个节点，芯片制造商都需要大量的研发和资金投入。越来越少的代工厂客户可以承担在每个节点开发设计。2018年，格芯，英特尔。

化学机械抛光设备化学机械抛光(CMP)是指圆片表面材料与研磨液发生化学反应时，在研磨头下压力的作用下进行抛光，使圆片表面平坦化的过程。圆片表面材料包括多晶硅、二氧化硅、金属钨、金属铜等，与之相对应的是不同种类的研磨液。化学机械抛光能够将整个圆片高低起伏的表面研磨成一致的厚度，是一种圆片全局性的平坦化工艺。CMP工艺在芯片制造中的应用包括浅沟槽隔离平坦化(STICMP)、多晶硅平坦化(PolyCMP)、层间介质平坦化(ILDCMP)、金属间介质平坦化(IMDCMP)、铜互连平坦化(CuCMP)。CMP设备主要分为两部分，即抛光部分和清洗部分。抛光部分由4部分组成，即3个抛光转盘和一个圆片装卸载模块。清洗部分负责圆片的清洗和甩干，实现圆片的“干进干出”。CMP设备主要生产商有美国AMAT和日本Ebara，其中AMAT约占CMP设备市场60%的份额，Ebara约占20%的份额。国内CMP设备的主要研发单位有天津华海清科和中电科45所，其中华海清科的抛光机已在中芯国际生产线上试用。、电镀设备电镀是指在集成电路制造过程中，用于加工芯片之间互连金属线所采用的电化学金属沉积。随着集成电路制造工艺的不断发展，目前电镀已经不限于铜线的沉积，还涉及锡、锡银合金、镍等金属的沉+积。前端晶圆制造：单晶炉/多晶炉、硅棒研磨机、晶圆切片机、晶圆倒角机、晶圆研磨机、扩散炉、物相沉淀设备。

二手半导体设备进口相关政策一：二手半导体设备种类比较多，根据不同原料不同用途品牌规格不同，因二手半导体设备是国家鼓励的项目，所以大部分品牌的半导体设备都是0%关税的，只有17%的增值税。二：《装运期检验检疫备案证书》是进口旧机电产品备案是在产品进口前采取的一项管理措施，是一种事前审批。自2015年北京公布取消备案行政审批并不意味着淡化对进口旧机电质量安全管理，更需加强事中事后监管。为保障进口旧机电产品的质量安全，促进产业结构调整和升级、优化，加强对进口旧机电产品的检验监管，总局启动了《中华共和国进出口商品检验法实施条例》第二十二条第二款及第五十一条第三款涉及进口旧机电产品备案条文的修改；发布了《质检总局关于调整进口旧机电产品检验监管的公告》。公告明确告知行政相对人，取消进口旧机电产品备案行政审批，明确进口旧机电产品的检验监管由装运前检验环节开始，具体包括装运前检验、口岸查验、目的地检验及监管三个环节。二手半导体设备进口报关报检注意事项1、旧半导体设备铭牌保持清晰可见，海关主要是查验时主要是看设备铭牌。根据我司操作经验，发现很多设备铭牌上信息与资料信息不一致，导致海关查验不通过。进口半导体上海清关公司，上海半导体光伏展会，提供半导体报关公司。海口半导体设备进口报关诚信推荐

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薄膜沉积设备:应用材料在PVD领域优势明显集成电路薄膜材料制造采用的工艺为物相沉积PVD(PhysicalVaporDeposition)与化学气相沉积CVD(ChemicalVaporDeposition)等。物相沉积指将材料源表面气化并通过低压气体/等离子体在基体表面沉积，包括蒸发、溅射、离子束等。化学气相沉积指将含有薄膜元素的气体通过气体流量计送至反应腔晶片表面反应沉积，包括低压化学气相沉积LPCVD、金属有机化合物气相沉积MOCVD、等离子体增强化学气相沉积PECVD等。原子层沉积ALD属于化学气相沉积的一种，区别在于化学吸附自限制(CS)与顺次反应自限制(RS)，每次反应只沉积一层原子，从而具备成膜均匀性好、薄膜密度高、台阶覆盖性好、低温沉积等优点，适用于具有高深宽比、三维结构基材。全球竞争格局:集成电路PVD领域主要被美国应用材料(AppliedMaterials)、瑞士Evatec、日本爱发科(Ulvac)所垄断，其中应用材料占比约85%;CVD领域全球主要供应商为美国应用材料(AppliedMaterials)、东京电子(TokyoElectron)、泛林半导体(LamResearch)，其中应用材料占比约30%。国内竞争格局:国内集成电路领域沉积设备供应商主要为沈阳拓荆与北方华创。沈阳拓荆:两次承担国家“02专项”。宁波提供半导体设备进口报关哪家好

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