高浓度酞菁PB15.3

塑料着色剂的主要结构类型塑料着色用的着色剂可有两类:一是溶剂染料或少数的分散染料，通过渗透、溶于树脂中而着色，如聚苯乙烯类着色;另一类为颜料，包括无机颜料与有机颜料,均不溶于树脂而以微细粒子使其着色。无机颜料耐久性（耐热、耐光、耐气候牢度）优良,但颜色不鲜艳,着色力低，色谱不齐全。有机颜料由于其品种繁多、颜色鲜艳、高的着色力、应用性能优良，已成为塑料、树脂的重要着色剂，按其结构类型不同，适用于塑料着色的颜料包括如下各类。酞菁绿具有耐光、耐候性好，着色力强，色泽鲜艳，色差小，展色性和流动性好；高浓度酞菁PB15.3

酞菁绿和深绿色颜色相近，因为都属于比较暗点的绿色。酞菁绿为有机着色剂，用于浅色橡胶制品生产时，虽然采用相同的配方和工艺条件，但产品常常出现不同的颜色。酞菁绿耐光、耐候性好，着色力强，色泽鲜艳，色差小，展色性和流动性好；酞菁绿不仅可用于中***环保外墙涂料，还可安全用于玩具漆、化妆品、办公用品、工艺品等；目前我国酞菁绿颜料的性能与工业发达国家相比，有一定的差距。主要表现为颜料粒子较大且分布不均匀，分散性能差。这对于颜料的色光，色力及其它应用性能都有较大的影响，如颜料粒径大于30μm制品表面产生斑点，条痕10~30μm制品表面无光泽；粒径小于5μm对一般制品可以满足使用。但对于纤维(单根纤维直径为20~30μm)和超薄膜(厚度小于10μm)则要求颜料粒径小于1μm。到目前为止这种超细颜料主要依赖进口。我国酞菁绿颜料的性能问题并非合成技术的原因，而主要是颜料表面处理技术与国外存在较大的差距。印度色泽鲜艳酞菁易分散蓝酞菁蓝泛应用于绘画、油漆、油墨、塑料、皮革、涂料、印花浆等着色领域。

涂料印花具有如下特点:工艺简单、色谱齐全（可以拼色)，印制的花形清晰,可增加着色品种（如荧光、夜光等)，具有较好的应用牢度;不受纺织纤维种类的限制，适用于各种包括混纺织物的印花;节省能耗，减少印花后处理过程的染色废水﹔印染织物的手感及透气性较差,摩擦牢度稍低。涂料印花浆可依据其特性分为不同类型:如水分散型,溶剂型，水/油相型，油/水相型。其中以水分散型应用**广,具有无毒、安全等特点，而溶剂型因其污染、安全性差且耗费大量溶剂，故较少采用。涂料印花漆的组成包括如下3部分。(1）颜料浆或称为涂料浆将符合要求的有机颜料与一定比例的润湿剂,如甘油、非离子表面活性剂（HLB>10)在水介质中研磨分散成0.2一0.5µm的粒子，以获得满意的着色力与鲜艳度；对于荧光颜料如粒径过小，将影响其荧光效果。

C.I.颜料蓝75为钴酞菁CoPc，为近年投放市场的红光蓝色品种,其性能与C.I.颜料60、a-CuPc相比，显示更暗的红光蓝色，是重要的功能性颜料品种之一，也可作为催化剂，CoPc的磺化产物为石油经类的脱臭剂。铝酞菁(AlPc)为非铜酞菁的另一品种、其产量和应用范围虽不如铜酞菁系列，属于具有某些特殊应用性能的着色剂。如作为光电导涂层材料中的“电荷形成层”、太阳能转化材料、污染的着色织物光照漂白增感剂、某些磺化或氯化衍生物用作杀菌剂等。铝酞菁的结构由于铝配位数的特殊性，产品是具有不同分子结构的混合物。铝酞菁制法一是以邻苯二腈为原料,在氯化铝存在下，在有机溶剂中反应;二是以邻苯二甲酸酐为原料，在氯化铝及催化剂存在下反应。偶氮类颜料中*有极少数的特定结构的品种，在热稳定性、耐迁移性、着色强度方面能满足应用的要求；

C.I.颜料绿7的合成可分为不同介质中的直接氯化以及由四氯苯酐或四氯邻苯二腈的缩合方法;由四氯苯酐缩合制得的产物分子中可含有16个氯原子。工业酞菁绿的制备方法主要是采用直接氯化，分为熔融法和溶剂法。氯化反应通常是在有机溶剂中进行,如SOCI₂、SO₂、TiCI₄等，但**常用的是CISO3H，尤其是 AlCl₃;-NaCl混合物作为卤化介质。氯化反应釜采用搪瓷锅，带有载体加热与冷却系统, 氯气应通过浓硫酸干燥,尾气用水吸收,副产盐酸。开始阶段氯化反应速度较快，当引入7~～8个氯原子后氯化反应速度降低，要放慢通氯速度,防止反应过于剧烈或发生副反应。例如:工业上采用将氯化钠(250 份)、AICl₃(1200份)加热至熔融,加入CuPc ( 1300份)、催化剂FeCl₃(60份）及CuCI₂(25份)，在190°C开始通氯气(40kg /h)逐渐升温至200℃，均匀地通入氯气有利子提高产品的鲜艳度。印度酞菁系列颜料可替代同色谱的群青、铁蓝、铬绿等颜料。印度原厂酞菁PB15.3

酞菁蓝颜料被广泛应用于涂料、油墨和橡胶、塑料等行业。高浓度酞菁PB15.3

空气自干漆是**常使用的长油型醇酸树脂涂料，***用于工业各领域中。其体系包括脂肪经、芳泾、松节油等。多数有机颜料具有良好的耐迁移性，主要以耐光、耐气候牢度为选择依据。烘焙漆属于热固型涂料，体系中含有三聚腈胺甲醛或尿素甲醛树脂,烘焙是在100~200°C范围加热不同时间。近年来的主要研究是控制或消除在烘焙过程中的溶剂释放，即开发溶剂含量很少或完全不含溶剂的涂料体系。诸如高固含量低溶剂含量的体系、非水分散体系（NAD)及水可稀释体系(Water-reducible)、紫外光或电子束固化体系及粉末涂料等。高浓度酞菁PB15.3

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