重庆生物制药工厂设计
复合式为将乱流式及层流式予以复合或并用,可提供局部超洁净之空气。①洁净隧道(CleanTunnel):以HEPA或ULPA过滤器将制程区域或工作区域100%覆盖使洁净度等级提高至10级以上,可节省安装运转费用。此型式需将作业人员之工作区与产品和机器维修予以隔离,以避免机器维修时影响工作及品质。ULSI制程大都采用此种型式。洁净隧道另有二项优点:A.弹性扩充容易;B.维修设备时可在维修区轻易执行。②洁净管道(CleanTube):将产品流程经过的自动生产线包围并净化处理,将洁净度等级提至100级以上。因产品和作业员及发尘环境相互隔离,少量之送风即可得到良好之洁净度,可节省能源,不需人工的自动化生产线为适宜使用。药品、食品业界及半导体业界均适用。③并装局部洁净室(CleanSpot):将洁净室等级10,000~100,000之乱流洁净室内之产品制程区的洁净度等级提高为10~1000级以上,以为生产之用;洁净工作台、洁净工作棚、洁净风柜即属此类。洁净工作棚:为在乱流式之洁净室空间内以防静电之透明塑料布围成一小空间,采用之HEPA或ULPA及空调送风机组而成为一较高级之洁净空间,其等级为10~1000级,高度在2.5米左右,覆盖面积约10m2以下,四支支柱并加装活动轮,可为弹性运用。厂房设计中的人性化设计和工作流程优化有哪些策略?重庆生物制药工厂设计
洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好湿度范围为35—45%。成都合成原料药设计厂房设计中的消防系统应该如何设计?
药厂关键工作间压差控制设计:洗烘间设计方案,洗烘间选用新回风空调机组和排风机组。新回风空调机组新风口连接前端全新风机组,机组回风口和送风口分别连接室内回风口和送风口。排风机组连接室内排风口。洗烘间内的清洗机和隧道烘箱设备排风与室内排风管相连,通过排风机组排至室外。房间压差设计,新回风空调机组通过新风定风量阀调节系统所需的新风量。新回风空调机组送风机以送风风压为目标进行恒风压调节,同时调节室内送风定风量阀以满足室内送风需求。排风机组排风机以排风风压为目标进行恒风压调节,同时调节室内排风定风量阀以满足室内排风要求。室内回风变风量阀根据室内压差对系统回风进行调节,做余风量控制,保证房间压差稳定可控。
洁净厂房低压配电电压应采用220/380V。带电导体系统型式宜采用单相二线制、三相三线制、三相四线制。系统接地的型式宜采用TN-S或TN-C-S系统。洁净厂房的用电负荷等级和供电要求应根据现行国家标准《供配电系统设计规范》(GB50052)和生产工艺要求确定。主要生产工艺设备由变压器或低压馈电线路供电,有特殊要求的工作电源宜设置不间断电源(UPS)。净化空调系统用电负荷、照明负荷应由变电所专线供电。洁净厂房的消防用电设备的供配电设计应按现行国家标准《建筑设计防火规范》(GBJ16)规定执行。电源进线(不包括消防用电)应设置切断装置,并宜设在洁净区外便于管理的地点。洁净室内的配电设备,应选择不易积尘、便于擦拭的小型暗装设备,不宜设置大型落地安装的配电设备。洁净室内的电气管线宜暗敷,穿线导管应采用不燃材料。洁净区的电气管线管口及安装于墙上的各种电器设备与墙体接缝处应有可靠的密封措施。厂房设计欢迎联系成都博一医药设计有限公司。
防静电洁净室中由于静电引起的的事故屡有发生,因此洁净室的防静电能力如何已成为评价其质量的一个不可忽视的方面。所谓静电,是由于摩擦等原因破坏了物体中正(+)负(-)电荷等量的均匀的电中性状态,而使电荷过剩,物体呈带电状态,由于这些电荷平时是不流动的,故称静电。在洁净室内静电导致的事故有以下几方面;①静电电引起的静电电击,引起人的不安全和恐惧感,并可造成二次伤害(例如人因受电击而摔倒,由摔倒又致伤);②静电放电引起的放电电流,可导致诸如半导体元件等破坏和误动作,例如将50块P-MOS电路放在塑料袋内,摇晃数次后,与非门栅极严重击穿者计39块,失效率竞达78%,这是因为半导体器件对静电放电十分灵敏;③静电放电产生的电磁波可导致电子仪器和装置的杂音和误动作;④静电放电的发光可导致照相肢片等感光破坏;细胞厂房设计欢迎咨询成都博一医药设计有限公司。重庆功能食品洁净工程设计
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净室(区)和人员净化用室设置外窗时,应采用双层玻璃固定窗,并应有良好的气密性。2.靠洁净室室内一侧窗不宜设窗台。3.洁净室内的密闭门应朝空气洁净度较高的房间开启,并加设闭门器,无窗洁净室的密闭门上宜设观察窗。4.洁净室门窗、墙壁、顶棚等的设计应符合下列要求:5.洁净室门窗、墙壁、顶棚、地(楼)面的构造和施工缝隙,均应采取可靠的密闭措施。6.当采用轻质构造顶棚做技术夹层时,夹层内宜设检修通道。7.洁净室窗宜与内墙面齐平,不宜设窗台。8.洁净室内的色彩宜淡雅柔和。室内各表面材料的光反射系数:顶棚和墙面宜为0.6~0.8,地面宜为0.15~0.35。重庆生物制药工厂设计
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