南京硅光电硅光电二极管阵列

时间:2024年05月15日 来源:

    该公司选择将汕尾深汕特别合作区作为生产基地,负责光电器件的制造。其产品范围包括光电二极管、光电三极管、红外线接收头、发射管、发光二极管、硅光电池、霍尔元件、光电开关、光电编码器、纸张感应器和光电耦合器等。经过十余年的发展,世华高半导体已成为一家先进的半导体器件制造商。公司在全球范围内设有多个销售机构,分布在中国、印度、泰国、伊朗、香港等多个国家和地区。由衬底107与外延层101体电阻组成),cj为光电二极管结电容(主要由p+有源区103与外延层101构成二极管的势垒电容组成),rl为系统等效负载(50ω);rs=ρ(wo-wd)/aj+rc,其中,wo为衬底厚度,wd为耗尽区宽度,aj为结面积,rc为接触电阻(欧姆接触可忽略不计),ρ为衬底电阻率;光电二极管响应度responsivity很大程度上依赖于耗尽区的宽度,耗尽区越宽,光子转换的光生载流子越多,响应度越高;而光电二极管响应时间t由三部分组成:t=(tcc2+tdiff2+trc2)1/2;tcc为耗尽区中光生载流子的收集时间,与耗尽区宽度wd成正比;tdiff为耗尽区之外的光生载流子扩散到耗尽区里面所需的时间,正比于(wo-wd)2;trc为rc时间常数,trc=(rs+rl)cj;本发明提供的高速高响应度的硅基光电二极管。滨松光电二极管选世华高半导体。南京硅光电硅光电二极管阵列

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    深圳市世华高半导体有限公司(SIVAGO)成立于2004年,总部设在深圳,主要负责研发和销售工作。该公司选择将汕尾深汕特别合作区作为生产基地,负责光电器件的制造。其产品范围包括光电二极管、光电三极管、红外线接收头、发射管、发光二极管、硅光电池、霍尔元件、光电开关、光电编码器、纸张感应器和光电耦合器等。经过十余年的发展,世华高半导体已成为一家先进的半导体器件制造商。公司在全球范围内设有多个销售机构,分布在中国、印度、泰国、伊朗、香港等多个国家和地区。本发明属于半导体器件技术领域,涉及一种高速高响应度的硅基光电二极管及其制备方法。背景技术:硅基光电二极管由于其材料成本造工艺简单,响应度峰值波长为940nm,在3dsensor、红外测距、光通讯等领域有着广泛的应用。由于光在硅中的入射深度跟入射光波长相关,波长越长,入射越深,因此为了提高响应度,传统光电二极管均选用高阻材料(电阻率2000~5000ohmcm)来提升耗尽区宽度,从而达到提高响应度的目的。随着光电二极管在光通讯中的广泛应用,光电二极管的响应速度要求越来越高,常规硅基光电二极管响应时间为纳秒级,已无法满足数据传输率1gbps以上的应用场景,因此。成都光电硅光电二极管哪家好硅光电二极管是现代化工业自动化中重要的二极管之一。

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    通过2CU、R­1­、R­2­的电流很小,因此R­2­两端电压很小,使BG­1­截止。深圳市世华高半导体有限公司(SIVAGO)成立于2004年。总部设在深圳,主要负责研发和销售工作。该公司选择将汕尾深汕特别合作区作为生产基地,负责光电器件的制造。其产品范围包括光电二极管、光电三极管、红外线接收头、发射管、发光二极管、硅光电池、霍尔元件、光电开关、光电编码器、纸张感应器和光电耦合器等。经过十余年的发展。世华高半导体已成为一家先进的半导体器件制造商。公司在全球范围内设有多个销售机构,分布在中国、印度、泰国、伊朗、香港等多个国家和地区。深圳市世华高半导体有限公司(SIVAGO)成立于2004年,总部设在深圳,主要负责研发和销售工作。该公司选择将汕尾深汕特别合作区作为生产基地,负责光电器件的制造。其产品范围包括光电二极管、光电三极管、红外线接收头、发射管、发光二极管、硅光电池、霍尔元件、光电开关、光电编码器、纸张感应器和光电耦合器等。经过十余年的发展,世华高半导体已成为一家先进的半导体器件制造商。公司在全球范围内设有多个销售机构,分布在中国、印度、泰国、伊朗、香港等多个国家和地区。BG­2­也截止,继电器触点释放。

    技术实现要素:本发明解决的技术问题在于提供高速高响应度的硅基光电二极管及其制备方法,在不影响光电二极管响应度的前提下,解决了硅基光电二极管响应速度慢的问题,实现硅基光电二极管高响应度与高响应速度同时提升。本发明是通过以下技术方案来实现:一种高速高响应度的硅基光电二极管,包括背面设有背面电极的衬底;衬底正面依次设有高反层、外延层、注入层、氧化硅层、氮化硅层和正面金属电极;所述的高反层上开设有用于形成电流路径的刻蚀孔,以及与正面金属电极相对应的刻蚀区;所述的注入层包括保护环以及设在其内的有源区;所述的正面金属电极还贯穿氧化硅层、氮化硅层与有源区相连接。所述的衬底为电阻率20~100为ohm·cm的硅基衬底,衬底背面直接做金属化处理形成背面电极。所述的高反层由折射率~~;高反层上开设的刻蚀孔为矩阵排列的圆形孔,或者为同心环形孔。所述的刻蚀孔为均匀分布的圆形孔时,孔直径为10~50um,孔间距为15~50um,圆形孔的总面积为结面积的1/2;所述的刻蚀孔为同心环形孔时,同心环中心与正面金属电极的中心重合,同心环中心为刻蚀区,相邻环间距5~20um。所述的外延层淀积在高反层上;在外延层上分别以n型离子注入形成保护环。世华高硅光电二极管性能稳定,技术成熟。

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    具体实施方式下面结合实施例对本发明做进一步详细描述,所述是对本发明的解释而不是限定。参见图1~图4,一种高速高响应度的硅基光电二极管,包括背面设有背面电极108的衬底107;衬底107正面依次设有高反层(109、外延层101、注入层、氧化硅层、氮化硅层和正面金属电极106;所述的高反层109上开设有用于形成电流路径的刻蚀孔,以及与正面金属电极106相对应的刻蚀区;所述的注入层包括保护环102以及设在其内的有源区103;所述的正面金属电极106还贯穿氧化硅层、氮化硅层与有源区103相连接。进一步的,所述的衬底107为电阻率20~100为ohm·cm的硅基衬底,衬底背面直接做金属化处理形成背面电极108。所述的外延层101淀积在高反层109上;在外延层101上分别以n型离子注入形成保护环102,以p型离子注入形成有源区103;所述的氧化硅层为热氧化生成sio2层104,所述的氮化硅层为淀积生长的si3n4层105;所述的正面金属电极106是在溅射后经刻蚀成形。参见图2所示的光电二极管等效电路示意图,rsh为光电二极管关断阻抗,rsh=∞,rs为光电二极管串联电阻。深圳市世华高半导体有限公司(SIVAGO)成立于2004年,总部设在深圳,主要负责研发和销售工作。硅光电二极管电路图就找世华高!成都光电硅光电二极管哪家好

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    控制煅烧温度为350℃,煅烧时间为3h,即可得sr掺杂batio3/znte光电极。图1为sr掺杂batio3纳米纤维的扫描电镜图,可以看到sr掺杂batio3纳米纤维表面很光滑,纤维直径在400nm左右,长度可达几十微米,纤维之间相互交叠,形成三维网状结构。图2为znte水热生长在sr掺杂batio3纳米纤维表面后的扫描电镜图,由图可知。深圳市世华高半导体有限公司(SIVAGO)成立于2004年,总部设在深圳,主要负责研发和销售工作。该公司选择将汕尾深汕特别合作区作为生产基地,负责光电器件的制造。其产品范围包括光电二极管、光电三极管、红外线接收头、发射管、发光二极管、硅光电池、霍尔元件、光电开关、光电编码器、纸张感应器和光电耦合器等。经过十余年的发展,世华高半导体已成为一家先进的半导体器件制造商。公司在全球范围内设有多个销售机构,分布在中国、印度、泰国、伊朗、香港等多个国家和地区。znte纳米薄片均匀生长到sr掺杂batio3纳米纤维表面,两者之间形成完美的核壳纳米异质结构。实施例二称取、,依次加入2ml乙酸、6ml乙醇和6ml水,搅拌一定时间,使固体粉末完全溶解;然后,加入,搅拌24h,得到纺丝溶液;移取7ml纺丝溶液到10ml注射器中。南京硅光电硅光电二极管阵列

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