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离散的互连结构限定连接至图2的存储器阵列102的列内的相应存储单元的两条字线wl1至wl2以及连接至图2的存储器阵列102的行内的相应存储单元的位线bl1。在一些实施例中，存储单元202a,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以通过第二多个通孔412b连接至第三互连层406c。在一些实施例中，一个或多个附加存储单元可以布置在存储单元202a,1上方。在这样的实施例中，第四互连层406d在第二存储单元202b,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206正下方延伸为连续结构。第四互连层406d通过第五互连层406e和第三多个通孔412c连接至第二存储单元202b,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206。第六互连层406f限定连接至图2的存储器阵列102的列内的相应存储单元的两条字线wl3至wl4以及连接至图2的存储器阵列102的行内的相应存储单元的位线bl2。在一些实施例中，第二存储单元202a,2的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以通过第四多个通孔412d连接至第六互连层406f。在其它实施例(未示出)中，一个或多个附加存储单元可以横向地布置为邻近存储单元202a,1。在一些这样的实施例中。回收，就选上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选，欢迎新老客户来电！上海二极管回收网

从而使下文的本公开详细描述得以获得较佳了解。构成本公开的权利要求标的的其它技术特征及优点将描述于下文。本公开所属技术领域中技术人员应了解，可相当容易地利用下文公开的概念与特定实施例作为修改或设计其它结构或工艺而实现与本公开相同的目的。本公开所属技术领域中技术人员亦应了解，这类等效建构无法脱离权利要求所界定的本公开的精神和范围。附图说明参阅实施方式与权利要求合并考量附图时，可得以更了解本公开的公开内容，附图中相同的元件符号是指相同的元件。图1的示意图说明调整信号的回转率的比较方法。图2的流程图说明参考图1所示的比较方法的迭代流程。图3是根据本公开的一些实施例的具有一机器学习电路的一电路的示意图。图4是根据本公开的一些实施例的神经网络的网络示意图，其中该神经网络通过图3的机器学习电路执行任务。图5是根据本公开的一些实施例的通过图3的机器学习电路执行的程序的流程图。图6的流程图说明根据本公开的一些实施例的基于具有图3的机器学习电路的电路的迭代流程。图7的流程图说明根据本公开的一些实施例的基于图6的迭代流程的图5的一训练阶段和推断阶段。山东呆滞料回收网上海海谷电子有限公司致力于提供回收，欢迎您的来电！

集成电路可以由多个单元定义，并且集成电路可以使用包括多个单元的信息的单元库来设计。在下文中，单元可以是标准单元，单元库可以是标准单元库。在一些示例实施例中，输入数据可以是针对集成电路的行为从抽象形式生成的数据。例如，可以使用标准单元库在寄存器传送级(rtl)中通过合成定义输入数据。例如，输入数据可以是通过对由硬件描述语言(hdl)(诸如，vhsic硬件描述语言(vhdl)或verilog)定义的集成电路进行合成而生成的比特流和/或网表。在一些示例实施例中，输入数据可以是用于对集成电路的布图进行定义的数据。例如，输入数据可以包括用于对实现为半导体材料、金属和绝缘体的结构进行定义的几何信息。例如，由输入数据指示的集成电路的布图可以具有单元以及用于将一个单元连接到其他单元的导线的布图。设置包括多个标准单元的标准单元库(s20)。术语“标准单元”可以表示集成电路的单元，其中，在该集成电路的单元中布图的大小满足预设或指定的规则。标准单元可以包括输入引脚和输出引脚，并且可以处理通过输入引脚接收的信号以通过输出引脚输出信号。例如，标准单元可以是诸如与(and)逻辑门、或(or)逻辑门、或非(nor)逻辑门或反相器的基本单元。

分类器电路80接收反映关于参考分类的信息的一参考电压vc。通过人工比较一预设电压vt和实际电压vout来获取参考分类。预设电压vt的微分决定信号dout于规范中规定的预设回转率。随后，分类器电路80通过比较预设电压vt和实际电压vout来产生反映关于不成熟分类的信息的电压vl。在训练阶段312中，分类器电路80基于不成熟分类和参考分类将预设电压vt更新为一经学习电压。经学习电压包括神经网络32的经加权值。mlc42基于经学习电压调整信号dout的回转率。在推理/分类阶段314中，分类器电路80基于经学习电压产生经配置以调整信号dout的回转率的预测。图10是根据本公开的一些实施例的图9的测量电路60的电路图。参照图10，测量电路60包括取样保持(s/h)电路600和602，以及一减法器604。s/h电路600经配置以对信号dout的一电压v1进行取样。在一些实施例中，s/h电路600包括一开关、一电容器和一以操作放大器为基底所组成的放大器。在一些实施例中，s/h电路600包括任何已知的s/h电路。s/h电路602经配置以对信号dout的一第二电压v2进行取样。在一些实施例中，s/h电路602包括一开关、一电容器和一以操作放大器为基底所组成的放大器。在一些实施例中，s/h电路602包括任何已知的s/h电路。回收，就选上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选，有想法的不要错过哦！

多个mtj器件106、204和206分别包括mtj，mtj具有通过介电遂穿阻挡层112与自由层114分隔开的固定层110。在一些实施例中，固定层110可以形成为接触底电极通孔408。在其它实施例中，自由层114可以形成为接触底电极通孔408。多个mtj器件106、204和206中的一个包括被配置为存储数据状态的工作mtj器件106。多个mtj器件106、204和206中的一个或多个包括设置在调节访问装置108内的调节mtj器件204和206，调节访问装置108被配置为控制(即，调节)提供给相关的工作mtj器件106的电流。在一些实施例中，可以同时形成多个mtj器件106、204和206。例如，在一些实施例中，可以通过在介电层1002和多个底电极通孔408上方沉积磁固定膜，在磁固定膜上方形成介电阻挡膜，并且在介电阻挡膜上方形成磁自由膜来形成多个mtj器件106、204和206。可以对磁固定膜、介电阻挡层和磁自由膜实施一个或多个图案化工艺以限定多个mtj器件106、204和206。在其它实施例中，可以在不同时间形成多个mtj器件106、204和206。如图11的截面图1100所示，在多个mtj器件106、204和206上方形成多个顶电极通孔410。多个顶电极通孔410由第二ild层1102围绕。在一些实施例中。上海海谷电子有限公司为您提供回收，欢迎新老客户来电！吉林三极管回收中心

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在半导体基底200上方形成中间层210、220和230。半导体基底200包括作为半导体晶圆的硅。在各种实施例中，半导体基底200可以包括另一元素半导体(诸如，锗)、化合物半导体(诸如，碳化硅、砷化镓、磷化镓、磷化铟、砷化铟和/或锑化铟)、合金半导体(诸如，gaasp、alinas、algaas、ingaas、gainp和/或gainasp)或它们的组合。半导体基底200可以包括有源区、外延特征、隔离结构、鳍状半导体区域和/或其他合适的特征。在一些示例实施例中，半导体基底200包括多晶硅层，该多晶硅层可被用于形成多晶硅栅电极或者用于在栅极替换工艺中形成虚设栅电极。中间层210、220和230可以是介电层，可以通过诸如热氧化、化学气相沉积(cvd)、物相沉积(pvd)、等离子体增强cvd(pecvd)和原子层沉积(ald)的一种或更多种沉积技术形成所述介电层。参照图4b，在设置在介电层230上方的层240和层250上方对光致抗蚀剂(或抗蚀剂图案)pr1、pr2和pr3进行图案化。例如，层250可以是含硅硬掩模层，层240可以是抗反射涂层。可以使用cvd、pvd或其他合适的方法形成层240和层250。在一些示例实施例中，可以在介电层230上方直接形成抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3而没有层240和层250。上海二极管回收网

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