陕西纳米粒度分析仪价格

EyeTec浓度测量：除了颗粒大小，激光和颗粒交互产生的信号可以提供非常有用的颗粒浓度信息。EyeTech记录全部的交互信号。因为旋转的激光的检测范围是一定的，所以颗粒浓度可以计算出来。了解颗粒数据库系统：可通过鼠标点击调出每个已检测颗粒的详细数据信息，包括图像、图形和参数；颗粒数量无限制；颗粒信息易于输出至Excel进行进一步处理；提供颗粒信息数据库，数据挖掘便于分析对比和统计。动态粒形分析的形状和粒径相关数据可提供关于单个颗粒丰富的信息。驰光机电以快的速度提供前列的产品质量和好的价格及完善的售后服务。陕西纳米粒度分析仪价格

能够允许用户为不同样品设置标准测量方法SOP，并且可以对SOP进行编辑和保存。EyeTech 是一个模块化的系统，可以选配10种不同的测量池。更换测量池简便快速，仪器便于分析各种颗粒，如液相、乳化液、干粉、纤维、磁粉、加热的液体和气溶胶等。这些测量池模块都是配合不同的分析方法而开发的，确保能够根据样品的特性来测量。纤维测量池：ACM-104L，气溶胶测量池ACM-106，微流量测量池ACM-108，载玻片测量池ACM-110，加热测量池ACM-111，自由落体测量池ACM-112。在每一次分析过程中，激光光束与颗粒之间发生了上百万次的交互作用。陕西纳米粒度分析仪价格驰光提供周到的解决方案，满足客户不同的服务需要。

系统配有冲洗系统，减少了由于系统污染引起的计划外停机维护时间。样品预处理系统：正确设计和操作样品调节系统是分析仪成功运行的关键。该系统基于现场经验针对这种复杂的工艺样品，专门为低维护操作而设计。低维护的固体颗粒分离器。不带过滤元件可将颗粒去除达到2-3微米，减少了维护量。先进的安全系统，保护分析仪免受高压影响和防止产品泄漏。简单校准。标准的引入是一种手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校准，无样本回收系统。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！驰光机电严格控制原材料的选取与生产工艺的每个环节，保证产品质量不出问题。

激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度，根据米氏散射理论，得出不同尺寸颗粒的相对含量，从而得到颗粒粒径的分布曲线。主要参数：测量范围：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋转速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，标准分析圆盘：CR-39聚合物（耐有机溶剂和水溶液），可选 配：低密度样品分析扩展、变速圆盘；自动密度梯度液生成器（型号AG300）；自动进样器（型号AS200）；标定用标准颗粒。半导体CMP用抛光垫、清洗液、修整盘、抛光液、纳米研磨粒子以及OLED显示光敏聚酰亚胺、封装墨水、低温光阻材料等20余款“卡脖子”材料。不断开发新的产品，并建立了完善的服务体系。上海病毒颗粒分析仪价格

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为了提高粒径的测量精度，需要较高的圆盘转速，目前市面上常见的运行速度较高在15000RPM，而国内在1500RPM，无法满足CPM化学机械抛光的需求。CPS-24000纳米粒度仪的最高转速为24000转，测试范围在5nm-75um，每次加样只需要0.1ml，降低样液的测试成本，可连续测量多达40个样品。CPS纳米粒度分析仪的使用方法已经列入国标，包括《金属粉末粒度分布的测量-重力沉淀光透法》、《煤矿粉尘粒度分布测定方法》、《橡胶配合剂-炭黑-聚集体尺寸的测定-使用光跟踪盘式离心沉淀仪法》等。陕西纳米粒度分析仪价格