箱式气氛炉多少钱一台

时间:2024年09月30日 来源:

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度6℃(恒温800℃,1h)二、气氛系统1.炉膛气氛,两路氮气,流量计量程为2~20L/min;每路流量可调节2.排气系统在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放,废气3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染4.氧含量配氧含量分析仪分析氧含量:5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量气氛炉定制生产,价格从优。箱式气氛炉多少钱一台

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真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它的工作原理是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。真萍科技作为真空干燥箱的原产厂家,生产的真空干燥箱都是厂家直接生产销售,质量可靠,有品质保证,欢迎来电咨询。大家知道真空干燥箱有哪些特点吗?不同厂商的真空干燥箱特点自然有所不同,小编下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。1.接通电源;2.产品送入腔体,关门;3.打开电源;4.工作温度设定好,启动加热,设备进入自动恒温状态;5.真空值和时间设定好后,启动真空泵,开始进入自动抽真空阶段;6.到达时间值后,真空泵自动关闭。杭州中高温气氛炉合肥真萍科技为您提供气氛炉的详细介绍。

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真空烘箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空烘箱的特点。1.长方体工作室,使有效容积达到相当大,微电脑温度控制器,精确控温。2.钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体,一目了然。3.箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。6.相当短加热时间,与传统干燥烘箱比加热时间减少50%以上。真空烘箱因为是由电力提供热能,而湿的物品是会导电的,故在使用上宜小心不要有漏电的现象发生,故一般烘箱都要接地使用,以保安全。若没有地线也要确认烘箱没有漏电的现象;若有轻微的漏电现象,可试着将插座拔起后将插脚以相反方向再插入,若没有漏电现象可小心使用,若仍有漏电现象则应立即停用。

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技作为精密鼓风烤箱的原厂生产厂家,设备都是自主生产销售的。质量可靠,品质保证,欢迎来电咨询。大家对精密鼓风烘箱有没有些许了解呢,下面小编就带大家走近精密鼓风烘箱,为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的参数。技术参数:1.型号:CB-9023A2.产品类型:液晶显示3.电源电压:AC220V±10%/50Hz±2%4.控温范围:室温+10℃-200℃5.温度分辨率:0.1℃6.温度波动度:≤±0.2℃7.温度均匀度:≤±1.5%8.输入功率:500W9.工作室尺寸(mm):300(宽)*300(深)*270(高)10.载物托架:2块11.定时范围:0-9999分钟为您推荐气氛炉的专业生产厂家。

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电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的可选择配件(需另外收费,订购时请注意)。1.可编程液晶控制器,可实现升温速率可调和保温时间可调。2.单独限温控制器,可实现在主控制器失灵后设备升温过高的情况下立即切断加热。3.无纸记录仪,通过USB接口将其记录的数据导入计算机可供分析、打印等,是有纸记录仪的更新换代产品,相当多八通道温度记录。4.配RS-485接口,可连接计算机和记录仪,实现时时***工作状态。5.温度测试孔,可实现不同测试线或仪器插入设备工作室内进行各种实验,测试孔孔径有φ25、φ50、φ80可选。6.载物托架,烘箱设备标配是2个载物托架,客户可根据自身需求增配托架数量。气氛炉选购应该注意哪些呢?合肥真萍科技告诉您。马鞍山气氛炉供应厂家

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。箱式气氛炉多少钱一台

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