南通玻璃用减薄用清洗剂配方技术

时间:2024年04月12日 来源:

    从而在玻璃侧部提供支撑效果,通过所述底支撑件43和所述侧支撑件44实现玻璃在所述玻璃加工治具4上的支撑稳定效果。较佳的,所述底支撑件43和所述侧支撑件44可均采用ptfe材质。较佳的,所述侧支撑件44设置为叉状型结构,即所述侧支撑件44包括两叉脚,所述玻璃侧边边缘设置于两所述叉脚间,两所述叉脚在一端连接,两所述叉脚间距离从连接端向非连接端的方向逐渐增大,两所述叉脚间的大距离大于玻璃的厚度,限制玻璃两对应侧部边缘的两所述侧支撑件44之间的水平距离大于玻璃两侧部边缘之间的水平距离,即当玻璃通过两侧的所述侧支撑件44进行支撑限制时,玻璃的两侧部边缘在两所述叉脚间空间内均具有一定的调整间隙,从而在所述玻璃加工治具4在所述腔室31内往复运动,玻璃的两侧部边缘相较于所述侧支撑件44进行一定的位置移动,从而避免所述侧支撑件44长期于玻璃的同一位置接触紧贴。所述侧支撑件44的结构设置,使所述玻璃加工治具4在所述腔室31内沿直线往复运动的过程中,所述侧支撑件44与玻璃之间的接触点发生变化,从而避免所述侧支撑件44与玻璃之间的接触点因所述侧支撑件44的长期接触造成接触点无法被喷淋液喷淋,若接触点无法被喷淋,易造成玻璃的减薄缺陷。减薄清洗剂采用独特配方,提高工作效率。南通玻璃用减薄用清洗剂配方技术

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    图1为本发明实施例提供的一种抛光减薄装置的结构示意图;图2为本发明实施例提供的一种托盘和待加工部件的键合固定方式示意图;图3为本发明实施例提供的一种磁转子的结构示意图;图4为本发明实施例提供一种磁转子的旋转方式的示意图;图5为本发明实施例提供的一种抛光减薄方法的流程示意图。具体实施方式以上是本发明的思想,为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供了一种抛光减薄装置,用于对inp基晶圆等部件进行抛光减薄,如图1所示,包括托盘10、喷头11和磁转子12,当然,本发明实施例中的抛光减薄装置还包括反应室13等,托盘10、喷头11和磁转子12等在反应室13内进行抛光和减薄反应。其中,托盘10,可选为石英托盘,用于固定待加工部件20,待加工部件20包括inp基晶圆。喷头11用于向待加工部件20的待加工表面喷涂抛光液110,以对待加工表面进行抛光。

    本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种抛光减薄装置和抛光减薄方法。背景技术:采用iii-v族化合物制作的半导体器件和超高速数字/数模混合电路等凭借其优良的频率特性,已经成为通讯、雷达、制导、空间防御、高速智能化武器及电子对抗等现代化装备的部件之一。在众多的iii-v族化合物中,inp(磷化铟)化合物具有独特的优势,这主要得益于其优良的材料特性,例如,inp和ingaas(铟镓砷)之间的晶格失配很小,以及电子饱和速率很高等,所以不论是hemt(highelectronmobilitytransistor,高电子迁移率晶体管)结构还是hbt(heterojunctionbipolartransistor,异质结双极晶体管)结构,都具有非常优异的高频、大功率性能。但是,inp材料的物理性能却很差,非常易碎,很小的碰撞或振动都会导致晶圆碎裂而前功尽弃,因此,inp材料的制造加工面临着很多工艺上的难题。尤其是在超高频率、大功率的inp基rfic(射频集成电路)的制造工艺中,如何在对inp基晶圆进行减薄抛光时,减小或避免inp基晶圆的损伤是本领域技术人员亟待解决的问题之一。技术实现要素:有鉴于此,本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法,以减小或避免inp基晶圆的减薄抛光损伤。为实现上述目的。减薄清洗剂,采用独特工艺,轻松去除顽固涂层。

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    图2为所述蚀刻区的结构示意图;图3为所述玻璃加工治具的种结构正视图;图4为所述玻璃加工治具的第二种结构正视图;图5为图3中的局部放大图;图6为所述玻璃加工治具的结构俯视图;图7为所述底支撑件的结构正视图;图8为所述底支撑件的结构侧视图。图中数字表示:1-转换区;2-冲洗区;3-蚀刻区;4-玻璃加工治具;31-腔室;32-主厚度测量仪;33-喷淋组件;41-底座;42-支撑架;43-底支撑件;44-侧支撑件;421-竖直平板;422-侧板;423-固定板;424-水平槽;425-竖直槽;426-固定槽;427-固定卡块;428-定位槽;429-定位孔;431-支撑条;432-第二支撑条;433-连接部;434-接触部;435-磁性件;436-第二磁性件;437-限位孔;438-限位块;439-第二限位块。具体实施方式以下结合附图,对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。实施例一如图1所示,图1为所述玻璃减薄设备的结构视图;本发明中所述玻璃减薄设备包括转换区1、冲洗区2和蚀刻区3,所述冲洗区2设置于所述转换区1和所述蚀刻区3之间,竖直容纳在玻璃加工治具4中的多个玻璃通过所述转换区1被加载到所述冲洗区2中,在所述冲洗区2中进行减薄前清洁并且在所述蚀刻区3中经历减薄处理。去除多余涂层,选择减薄用清洗剂,效果好。南通玻璃用减薄用清洗剂配方技术

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    且所述限位块438和所述第二限位块439均可在所述限位孔437内移动,通过所述连接部433的限位效果,避免所述支撑条431和所述第二支撑条432在磁力作用下产生脱离,从而使所述支撑条431和所述第二支撑条432在磁力和所述连接部433的限位力作用下保持平衡。一般的,所述位块438和所述第二限位块439均设置为圆柱型,从而便于所述限位块438和所述第二限位块439在所述限位孔437内的移动。当放置于所述底支撑件43上的玻璃受到冲击或振动时,所述支撑条431可相对于所述第二支撑条432作水平方向的偏移移动,或所述限位块438和所述第二限位块439均在所述限位孔437内移动,使所述支撑条431可相对于所述第二支撑条432作竖直方向的移动,从而可实现对各个方向上冲击力或振动的吸收缓冲效果,提高玻璃的安全性。较佳的,所述限位块438和所述第二限位块439可设置为螺钉,所述限位孔437宽度配合所述螺钉的螺纹直径设置,在所述支撑条431和所述第二支撑条432上设置螺纹孔,通过将所述限位块438和所述第二限位块439与所述螺纹孔螺纹连接,从而实现所述限位块438和所述第二限位块439在所述支撑条431和所述第二支撑条432上的固定。通过将所述限位块438和所述第二限位块439设置为螺钉。南通玻璃用减薄用清洗剂配方技术

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