深圳VHB双面日东胶带厂家供应

时间:2024年10月01日 来源:

具有优异遮光性的聚酯双面胶带 No.5605BN/No.5606BN/No.5608BN/ No.5610BN/No.5612BN/No.5615BN               采用聚酯薄膜基材制成,因此具有优异的遮光特性。 是固定 LCD 和背光模块元件的理想产品。特征         可牢固粘贴在所有被粘合体上。特殊基材确保了良好的遮光效果。采用聚酯薄膜离型纸和塑料胶芯等无尘材料。无卤素 (*特意未使用氯化合物。)特性产品编号厚度[mm]180°剥离强度[N/20mm](对于不锈钢)No.5605BN0.0511.0No.5606BN0.0613.1No.5608BN0.0815.1No.5610BN0.1016.9No.5612BN0.1220.5No.5615BN0.1521.3Nitto 5791 系列产品是一种涂有压敏粘合剂、以交联聚烯烃泡沫为基材的双面泡沫胶带.深圳VHB双面日东胶带厂家供应

日东胶带

含**度氟塑料 (PTFE) 膜的胶带NITOFLON™ No.923UT单击缩放NO.923UT 是一款含有氟塑料 (PTFE) 薄膜和硅树脂粘合剂的胶带。该薄胶带总厚度为 0.04 mm,具有出色的抗拉强度和较小的伸长率。另有出色的耐热性、电绝缘性和滑动特性。特征该薄胶带总厚度为 0.04 mm,具有出色的抗拉强度和较小的伸长率。另有出色的耐热性、电绝缘性、滑动特性、防水性和粘性消除性。 应用用于移动设备的接线电缆(用于保护和绝缘)改善成型过程中的粘性消除特性电缆与线圈的电气绝缘深圳VHB双面日东胶带厂家供应日东NO.2107NVH 汽车线束胶带。

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氟塑料薄膜氟塑料定向薄膜 NITOFLON No.920UL超薄、无粘合性的氟塑料薄膜。单击缩放NITOFLON No.920UL 是一款超薄、无粘合性的薄膜,不含任何填充剂。 具有聚四氟乙烯 (PTFE) 的优良特征。特征抗拉强度和击穿电压几乎分别为 NITOFLON 压延薄膜的 2 倍和 1.5 倍。 适用于电子部件的绝缘,尤其可作为电机、变压器和励磁线圈的绝缘涂层,也可用作隔层绝缘(如逆电流器和槽隙绝缘)材料。我们可以生产厚度为 20 µm 的超薄薄膜。 适用于精密设备(如照相机、计算器和盒式录音机)的滑动面以及用于模具切割包装。具有平滑的表面和非粘合性;适用于滑动零件。

双面胶带5005T

Nitto5005T(P)是由改性压敏丙烯酸粘合剂制成的转移胶带,在表面能量低的被粘合体若需要特别高的粘合性时,该胶带可用作一般泡棉胶带进行粘贴。当要求使用湿度稳定的内衬时,可使用‘P’类胶带。

特征在低表面能量的被粘合体上具有较强的粘力抗反拨性高工作温度范围大符合RoHS指令

双面胶带5005TNitto5005T(P)是由改性压敏丙烯酸粘合剂制成的转移胶带,在表面能量低的被粘合体若需要特别高的粘合性时,该胶带可用作一般泡棉胶带进行粘贴。当要求使用湿度稳定的内衬时,可使用‘P’类胶带。特征在低表面能量的被粘合体上具有较强的粘力抗反拨性高工作温度范围大符合RoHS指令 两面具有不同粘合剂且剥离性良好的双面胶带 No.535A.

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氟塑料半导电胶带NITOFLON No.903SC用于静电保护的半导体氟塑料胶带。NITOFLON No.903SC 胶带由基材为导电碳的聚四氟乙烯 (PTFE) 制成。 该胶带为单表面处理胶带,涂有丙烯酸粘合剂。 基材具有半导电性,可防止静电。特征还可防止静电累积。与普通胶带一样,可进行平滑地层压、缠绕、粘附和密封。氟塑料半导电胶带NITOFLON No.903SC用于静电保护的半导体氟塑料胶带。NITOFLON No.903SC 胶带由基材为导电碳的聚四氟乙烯 (PTFE) 制成。 该胶带为单表面处理胶带,涂有丙烯酸粘合剂。 基材具有半导电性,可防止静电。特征还可防止静电累积。与普通胶带一样,可进行平滑地层压、缠绕、粘附和密封。Nitto 5790S 是一种涂有压敏粘合剂、以交联聚烯烃泡沫为基材的单面泡沫胶带.深圳VHB双面日东胶带厂家供应

日东5011N,日东5015,日东501L,日东5114.深圳VHB双面日东胶带厂家供应

3M6035PC低雾化转移胶带3M6035PC透明双面胶适用车内高温环境抗紫外线良好的防潮性较高的初始粘附性产品信息参数精工制作品质***基材:无基材颜色:透明胶系:3M6035PC#300MP丙烯酸耐温范围:短期耐温121℃厚度:0.13mm长期耐温82℃规格:1219MM*55M背材:58#涂布牛皮纸胶粘剂3M6035PC#300MP是一个高粘丙烯酸胶粘剂系统,具有较高的初始粘附性和良好的防潮性,耐化学剂和抗紫外线的性能。3M6035PC其耐高温的性能通常也能承受汽车内饰相关的环境条件。深圳VHB双面日东胶带厂家供应

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