南京高效硅异质结CVD

异质结电池生产设备，本征非晶硅薄膜沉积（i-a-Si:H）i-a-Si:H/c-Si界面处存在复合活性高的异质界面，是由于界面处非晶硅薄膜中的缺陷和界面上的悬挂键会成为复合中心，因此需要进行化学钝化；化学钝化主要由氢钝化非晶硅薄膜钝化层来完成，将非晶硅薄膜中的缺陷和界面悬挂键饱和来减少复合性缺陷态密度。掺杂非晶硅薄膜沉积场钝化主要在电池背面沉积同型掺杂非晶硅薄层形成背电场，可以削弱界面的复合，达到减少载流子复合和获取更多光生载流子的目的；掺杂非晶硅薄膜一般采用与沉积本征非晶硅膜层相似的等离子体系统来完成；p型掺杂常用的掺杂源为硼烷(B2H6)混氢,或者三甲基硼(TMB)；n型掺杂则用磷烷混氢（PH3)。优越的表面钝化能力是获得较高电池效率的重要条件，利用非晶硅优异的钝化效果，可将硅片的少子寿命大幅度提升。光伏异质结电池的使用寿命长，具有长期稳定的能源供应能力。南京高效硅异质结CVD

光伏异质结的制造工艺主要包括以下几个步骤：1.基片制备：选择合适的基片材料，如硅、镓砷化镓等，进行表面处理和清洗，以保证后续工艺的顺利进行。2.沉积薄膜：利用化学气相沉积、物理的气相沉积等技术，在基片表面沉积一层或多层薄膜，如n型或p型掺杂层、金属电极等。3.制造异质结：通过掺杂、扩散、离子注入等方法，在基片表面形成n型和p型半导体材料的异质结。4.退火处理：将制造好的异质结进行高温退火处理，以提高其电学性能和稳定性。5.制造封装：将制造好的光伏异质结进行封装，以保护其免受外界环境的影响，并方便其在实际应用中的使用。以上是光伏异质结的制造工艺的基本步骤，不同的制造工艺可能会有所不同，但总体上都是在这些基本步骤的基础上进行的。深圳高效异质结技术光伏异质结的制造工艺包括薄膜沉积、热处理、光刻等步骤，具有灵活性高、可定制化的优点。

异质结太阳能电池使用晶体硅片进行载流子传输和吸收，并使用非晶/或微晶薄硅层进行钝化和结的形成。顶部电极由透明导电氧化物（TCO）层和金属网格组成。异质结硅太阳能电池已经吸引了很多人的注意，因为它们可以达到很高的转换效率，可达26.3%，相关团队对HJT极限效率进行更新为28.5%，同时使用低温度加工，通常整个过程低于200℃。低加工温度允许处理厚度小于100微米的硅晶圆，同时保持高产量。异质结电池转换效率高，拓展潜力大，工艺简单并且降本路线清晰，契合了光伏产业发展的规律，是有潜力的下一代电池技术。

高效HJT电池整线装备，物理的气相沉积，PVD优点沉积速度快、基材温升低；所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好；溅射工艺可重复性好，精确控制厚度；膜层粒子的散射能力强，绕镀性好；不同的金属、合金、氧化物能够进行混合，同时溅射于基材上；缺点：常规平面磁控溅射技术靶材利用率不高，一般低于40％；在辉光放电中进行，金属离化率较低。反应等离子体沉，RPD优点：对衬底的轰击损伤小；镀层附着性能好，膜层不易脱落；源材料利用率高，沉积速率高；易于化合物膜层的形成，增加活性；镀膜所使用的基体材料和膜材范围广。缺点：薄膜中的缺陷密度较高，薄膜与基片的过渡区较宽，应用中受到限制（特别是电子器件和IC）；薄膜中含有气体量较高。异质结电池以其出色的发电性能、技术延展性和低碳制造过程，脱颖而出成为主流技术之一。

质结电池TCO薄膜的方法主要有两种：RPD（特指空心阴极离子镀)和PVD(特指磁控溅射镀膜)；l该工艺主要是在电池正背面上沉积一层透明导电膜层，通过该层薄膜实现导电、减反射、保护非晶硅薄膜的作用，同时可以有效地增加载流子的收集；l目前常用于HJT电池TCO薄膜为In2O3系列，如ITO（锡掺杂In2O3，@PVD溅射法）、IWO（钨掺杂In2O3，@RPD方法沉积）等。HJT电池具备光电转化效率提升潜力高、更大的降成本空间。零界高效异质结电池整线解决方案，实现设备国产化，高效高产PVD DD CVD。异质结电池PECVD电源以RF和VHF为主。杭州N型异质结吸杂设备

光伏异质结的广泛应用将有助于减少温室气体排放，降低对化石能源的依赖，实现可持续发展目标。南京高效硅异质结CVD

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